Kreutz, E.W.E.W.KreutzKrösche, M.M.KröscheSung, H.H.SungVoss, A.A.VossLeyendecker, T.T.LeyendeckerLemmer, O.O.LemmerErkens, G.G.Erkens2022-03-032022-03-031990https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/178778Auf Oberflächen metallischer Werkstoffe werden mit einem laserstrahlungsunterstützten PVD-Verfahren (LPVD-Verfahren) Hartstoff- und Keramikschichten aufgebracht. Eine LPVD-Versuchsanlage erlaubt die Untersuchung der physikalischen Prozesse. Typische Schichtdecken der Al2O3-Schichten (gepulste TEA-CO2-Laserstrahlungsquelle) bzw. TiN-Schichten (kontinuierliche CO2-Laserstrahlungsquelle) liegen im Bereich von einigen mym bei Abscheidungszeiten von einigen 10 Minuten.deAbscheidungszeitIonenplattierenKathodenzerstäubungKeramikschichtLaserstrahlungsquellePVD-Verfahren621book article