Erzeugung von Mikrorelief-Oberflächen mit Grauton-Lithographie
Abstract
Die Grauton-Lithographie ist eine Technologie zur Herstellung von freiwählbaren kontinuierlichen Reliefoberflächen mit Dimensionen im Mikrometerbereich. Das Verfahren kommt mit einem einzigen Photolithographieschritt aus und benutzt kommerziell erhältliche, binär grauton-codierte Photomasken sowie konventionelle Lithographiegeräte. Damit ist dieser Prozeß in bestehenden Halbleiter- und Mikrosystem-Fertigungslinien einsetzbar, so daß eine hohe Reproduzierbarkeit und eine kostengünstige Produktion in hohen Stückzahlen erreicht werden kann. Die Übertragung der primären Photoresist-Reliefstrukturen in die Funktionsmaterialen, wie Silizium, Glas oder Metalle erfolgt mittels Trockenätzen oder Abformtechniken. Diskutiert werden Anwendungen des Verfahrens im Bereich der Mikrooptik zur Herstellung von Mikrolinsen, -prismen oder -gittern sowie mikromechanische Anwendungen.
