Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von Schichten mit verbesserter Uniformität bei Beschichtungsanlagen mit horizontal rotierender Substratführung mit zusätzlichen Plasmaquellen

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Herstellung von Schichten mit einstellbarer Schichtdickenverteilung bei Beschichtungsanlagen mit horizontal rotierender Substratführung. Es kann eine sehr homogene Verteilung oder auch eine gezielt inhomogene Verteilung eingestellt werden. Zudem wird die Partikelbelastung deutlich reduziert. Die Standzeit ist gegenüber anderen Verfahren deutlich erhöht. Parasitäre Beschichtungen werden reduziert.