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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Anwendung des Lasers zur Herstellung neuer Strukturen für die Mikroelektronik.
 
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1986
Journal Article
Title

Anwendung des Lasers zur Herstellung neuer Strukturen für die Mikroelektronik.

Other Title
New structures for microelectronics by laser annealing
Abstract
Es wird ein Ueberblick gegeben ueber die thermische Behandlung vom Silizium mit Laserlicht zur Aktivierung von implantierten Ionen und zur Rekristallisierung von abgeschiedenen Siliziumschichten. (IMS)
Author(s)
Vogt, H.
Zimmer, G.
Journal
Laser und Optoelektronik  
Language
German
Fraunhofer-Institut für Mikroelektronische Schaltungen und Systeme IMS  
Keyword(s)
  • Anwendung

  • Herstellung

  • laser

  • Mikroelektronik

  • Struktur

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