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Fraunhofer-Gesellschaft
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  4. Ionic film deposition from single-filament dielectric-barrier discharges - Comparison of hexamethyldisiloxane and hexamethyldisilane precursors
 
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May 22, 2023
Presentation
Title

Ionic film deposition from single-filament dielectric-barrier discharges - Comparison of hexamethyldisiloxane and hexamethyldisilane precursors

Title Supplement
Paper for ISPC 2023
Abstract
Single-filament dielectric-barrier discharges at atmospheric pressure are used to investigate the effect of short residence times on the plasma polymerization of
hexamethyldisiloxane (HMDSO) and hexamethyldisilane (HMDS), respectively. Experiments with precursor fractions between 25 and 2000 ppm in argon show that neither radicals are deposited nor surface reactions with the monomer take place. Possible pathways for the ionic deposition using HMDSO or HMDS are discussed.
Author(s)
Bröcker, Lars
TU Braunschweig, Institut für Oberflächentechnik
Steppan, Nickolas
TU Braunschweig, Institut für Oberflächentechnik
Hain, Kevin
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST  
Winzer, Tristan
Christian-Albrechts-Universität zu Kiel, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Benedikt, Jan
Christian-Albrechts-Universität zu Kiel, Mathematisch-Naturwissenschaftliche Fakultät
Stankov, Marjan
Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie INP, Greifswald
Loffhagen, Detlef
Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie INP, Greifswald
Klages, Claus-Peter
TU Braunschweig, Institut für Oberflächentechnik
Project(s)
Mechanisms of ambient-pressure plasma-enhanced chemical vapor deposition – studies of dielectric barrier discharges with short gasresidence times  
Funder
Deutsche Forschungsgemeinschaft  
Conference
International Symposium on Plasma Industry 2023  
Link
Link
Language
English
Fraunhofer-Institut für Schicht- und Oberflächentechnik IST  
Keyword(s)
  • ionic deposition

  • DBD

  • single-filament

  • PECVD

  • hexamethyldisilane

  • HMDSO

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