Fraunhofer-Gesellschaft

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Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik. Jahresbericht 2006

Fraunhofer Institute for Applied Optics and Precision Engineering. Annual Report 2006
 
: Tünnermann, A.; Weber, B.
: Fraunhofer-Institut für Optik und Feinmechanik -IOF-, Jena

:
Fulltext urn:nbn:de:0011-n-630759 (32.4 MByte PDF)
MD5 Fingerprint: 06de8982aab242cc8db331effe2f48d5
Created on: 01.10.2007


Jena: IOF, 2007, 109 pp.
German, English
Annual Report, Electronic Publication
Fraunhofer IOF ()

[]
Contents S.3-4
Vorwort S.5-6
Wichtige Ereignisse 2006 S.7-12
Das Institut im Profil S.13-18
Das Institut in Zahlen S.19-20
Fraunhofer-Verbund Oberflächentechnik und Photonik S.21-22
Die Fraunhofer-Gesellschaft S.23
Ausgewählte Ergebnisse S.24
Produktion von mikrooptischen Bauteilen und Systemen S.25-26
Scharfer Blick ins Weltall - Ultrapräzise Metallspiegel für astronomische und Weltraumanwendungen S.27-32
Infrarot-Kamera für das Skinakas-Observatorium S.33-34
Phasenschieber für die DARWIN-Mission S.35-36
Ionenfallen für die Quantencomputer der Zukunft S.37-38
Lithographie der nächsten Generation für Mikrooptik S.39-44
Blankpressen von Glas als Technologie für Mikro- und Nanooptik S.45-46
Ultrapräzisionsbearbeitung - Technologie für innovative Optikelemente S.47-48
Strategien für die prozessintegrierte Nanorauheits-Kontrolle durch Streulichtmethoden S.49-50
Farbsehen mit künstlichen Facettenaugen S.51-52
Miniaturisierte Laserprojektoren S.53-54
Opto- und thermo-mechanisches Design von Hochleistungsfaserlasern S.55-56
Anwendung optimierter THz-Imaging-Systeme S.57-58
Lasergelötete Faserkopplung für UV-Anwendungen S.59-60
Metamaterialien mit negativem Brechnungsindex für die Überwindung der Abbeschen Auflösungsgrenze S.61-66
Lichtpropagation in fs-Lasergeschriebenen Wellenleitern S.67-70
Neue Entwicklungen auf dem Gebiet optischer Schichten S.71-76
Moderne Dünnschichtoptik jenseits des homogenen und isotropen Schichtmodells S.77-78
Haftfeste Beschichtung von PMMA - von der Prozessentwicklung zur industriellen Nutzung S.79-80
Schutzschichten für EUV-Lithographie-Optiken S.81-82
Stereobasierte Streifenprojektion - industrietaugliche 3D-Digitalisiersysteme S.83-88
Visuelles Stimulationssystem für den Einsatz in der Magnetoenzephalographie S.89-90
Hochsensitive Bestimmung der Verluste von synthetischem Quarzglas für die 193 nm Immersionslithographie S.91-92
Besondere technische Ausstattung S.93-94
Namen, Daten, Ereignisse S.95-97
Patente S.98-99
Wissenschaftliche Publikationen S.100-107
Der Weg zu uns S.108