Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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2020POCl3-Based Emitter Diffusion Process with Lower Recombination Current Density and Homogeneous Sheet Resistance for Nanotextured Monocrystalline Silicon with atmospheric Pressure Dry Etching
Khan, N.W.; Ridoy, A.I.; Kafle, B.; Klitzke, M.; Schmidt, S.; Clochard, L.; Wolf, A.; Hofmann, M.; Rentsch, J.
Konferenzbeitrag
2019Surface Passivation of Atmospheric Pressure Dry Etched Multicrystalline Silicon Surfaces
Ridoy, A.I.; Kafle, B.; Khan, N.W.; Klitzke, M.; Lohm├╝ller, S.; Clochard, L.; Duffy, E.; Wolf, A.; Hofmann, M.
Konferenzbeitrag