Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2001Fabrication of InGaAsP/InP ridge waveguide lasers with dry etched facets using chemically assisted ion beam etching and a simple photoresist mask
Paraskevopoulos, A.; Hensel, H.-J.; Molzow, W.-D.; Janiak, K.; Suryaputra, E.; Roehle, H.; Wolfram, P.; Ebert, W.
Konferenzbeitrag
1999Modeling of edge roughness in ion projection lithography
Henke, W.; Torkler, M.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
1998Surface-micromachined electrostatic microrelay
Schiele, I.; Huber, J.; Hillerich, B.; Kozlowski, F.
Konferenzbeitrag
1997Influence of optical nonlinearities of the photoresist on the photolithographic process
Erdmann, A.; Henderson, C.L.; Willson, C.G.; Henke, W.
Konferenzbeitrag
1997Micro-optic fabrication using one-level gray-tone lithography
Reimer, K.; Quenzer, H.J.; Jürss, M.; Wagner, B.
Konferenzbeitrag
1995Application of ultraviolet depth lithography for surface micromachining
Löchel, B.; Maciossek, A.; Rothe, M.
Konferenzbeitrag
1994Fabricating spherical microlens arrays with a two step laser beam writing technique
Przyrembel, G.
Konferenzbeitrag
1993Fabrication of magnetic microstructures by using thick layer resists
Löchel, B.; Maciossek, A.; König, M.; Huber, H.-L.; Bauer, G.
Konferenzbeitrag
1993Process latitude for sub-200 nanometer synchroton orbital radiation X-ray lithography
Oertel, H.K.; Chlebek, J.; Weiß, M.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
1991A 0.25 mu m NMOS transistor fabricated with X-ray lithography
Breithaupt, B.; David, H.H.; Ballhorn, R.; Jacobs, E.P.; Windbracke, W.; Zwicker, G.
Konferenzbeitrag
1991The influence of post-exposure bake on linewidth control for the resist system RAY-PN-AZPN 100- in X-ray mask fabrication
Chlebek, J.; Schulz, T.; Grimm, J.; Huber, H.-L.
Konferenzbeitrag
1991Modelling of illumination effects on resist profiles in X-ray lithography
Oertel, H.; Weiß, M.; Huber, H.-L.; Vladimirsky, Y.; Maldonado, J.R.
Konferenzbeitrag
1990Percolation theory and resist development in X-ray lithography
Oertel, H.; Weiß, M.; Dammel, R.; Theis, J.
Konferenzbeitrag