Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2019Entscheidungskompetenz Robotersysteme
Kraus, Werner; Wöltje, Kay
Tagungsband
2018Best practice approach for assessment of microchip-associated tumors in preclinical safety studies: Position of the Registry of Industrial Toxicology Animal-data (RITA)
Lapp, Stefanie; Bube, Axel; Colbatzky, Florian A.; Ernst, Heinrich; Kellner, Rupert; Nolte, Thomas; Rinke, Matthias
Zeitschriftenaufsatz
2016Entscheidungskompetenz Robotersysteme
Pott, Andreas; Dietz, Thomas
: Verl, Alexander (Hrsg.); Bauernhansl, Thomas (Hrsg.)
Tagungsband
2016On the design of passive resonant circuits to measure local pulse wave velocity in a stent
Schächtele, Jonathan
Zeitschriftenaufsatz
2015Defect removal after low temperature annealing of boron implantations by emitter etch-back for silicon solar cells
Müller, R.; Moldovan, A.; Schiller, C.; Benick, J.
Zeitschriftenaufsatz
2015Diffusion and segregation model for the annealing of silicon solar cells implanted with phosphorus
Wolf, F. Alexander; Martinez-Limia, Alberto; Grote, Daniela; Stichtenoth, Daniel; Pichler, Peter
Zeitschriftenaufsatz
2015Entscheidungskompetenz Robotersysteme
Pott, Andreas; Dietz, Thomas
Konferenzbeitrag
2015Entscheidungskompetenz Robotersysteme
Pott, Andreas; Dietz, Thomas
: Verl, Alexander (Hrsg.); Bauernhansl, Thomas (Hrsg.)
Tagungsband
2015Impact of implanted phosphorus on the diffusivity of boron and its applicability to silicon solar cells
Schrof, J.; Müller, R.; Reedy, R.C.; Benick, J.; Hermle, M.
Zeitschriftenaufsatz
2014Back-junction back-contact n-type silicon solar cell with diffused boron emitter locally blocked by implanted phosphorus
Müller, R.; Schrof, J.; Reichel, C.; Benick, J.; Hermle, M.
Zeitschriftenaufsatz
2014Ion implantation for all-alumina IBC solar cells with floating emitter
Müller, R.; Reichel, C.; Benick, J.; Hermle, M.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2013Evaluation of resistless Ga+ beam lithography for UV NIL stamp fabrication
Rumler, Maximilian; Fader, Robert; Haas, Anke; Rommel, Mathias; Bauer, Anton; Frey, Lothar
Zeitschriftenaufsatz
2013Implantation studies on silicon-doped GaN
Simon, R.; Vianden, R.; Köhler, K.
Zeitschriftenaufsatz
2012Evaluation of resistless Ga+ beam lithography for UV-NIL stamp fabrication
Rumler, Maximilian; Fader, Robert; Haas, Anke; Rommel, Matthias; Bauer, Anton J.; Frey, Lothar
Poster
2008Experimental evidence of different hydrogen donors in n-type InN
Pettinari, G.; Masia, F.; Capizzi, M.; Polimeni, A.; Losurdo, M.; Bruno, G.; Kim, T.H.; Choi, S.; Brown, A.; Lebedev, V.; Cimalla, V.; Ambacher, O.
Zeitschriftenaufsatz
2002Lasertriangulationsgesteuerte Sensorik und miniaturisierte Roboterkinematik können Implantationen an der lateralen Schädelbasis optimieren
Malthan, D.; Stallkamp, J.; Wößner, S.; Dammann, F.; Zenner, H.-P.; Maassen, M.
Konferenzbeitrag
2002Three-dimensional simulation of the channel stop implant effects in sub-quarter micron PMOS transistors
Burenkov, A.; Lorenz, J.
Konferenzbeitrag
2000Micro coils for an advanced system for measuring intraocular pressure
Ullerich, S.; Mokwa, W.; VomBögel, G.; Schnakenberg, U.
Konferenzbeitrag
1999Microelectronic components for a retina implant system
Kolnsberg, S.; Kneip, T.; Lü, X.; Huppertz, J.; Hauschild, R.; Schwarz, M.; Hammerschmidt, D.; Hosticka, B.J.; Ewe, L.; Trieu, H.-K.
Konferenzbeitrag
1999Single chip CMOS image sensors for a retina implant system
Schwarz, M.; Hauschild, R.; Hosticka, B.J.; Huppertz, J.; Kneip, T.; Kolnsberg, S.; Ewe, L.; Trieu, H.-K.
Konferenzbeitrag
1998Development of a retina implant for epiretinal ganglion cell stimulation for patients suffering from retinitis pigmentosa
Schwarz, M.; Ewe, L.; Hauschild, R.; Hosticka, B.J.; Huppertz, J.; Kneip, T.; Kolnsberg, S.; Mokwa, W.; Trieu, H.-K.
Konferenzbeitrag
1998Reliability of metal-oxide-semiconductor capacitors on nitrogen implanted 4 H-silicon carbide
Treu, M.; Burte, E.P.; Schörner, R.; Friedrichs, P.; Stephani, D.; Ryssel, H.
Zeitschriftenaufsatz
1997Doping of SiC by implantation of Boron and Aluminum
Troffer, T.; Schadt, M.; Frank, T.; Itoh, H.; Pensl, G.; Heindl, J.; Strunk, H.P.; Maier, M.
Zeitschriftenaufsatz
1997Tribological properties of silicon nitride ceramics modified by titanium and subsequent oxygen implantation
Brenscheidt, F.; Mändl, S.; Günzel, R.; Wieser, E.; Möller, W.; Fischer, W.; Herrmann, M.
Zeitschriftenaufsatz
1996Hardware architecture of a neural net based retina implant for patients suffering from retinitis pigmentosa
Schwarz, M.; Hosticka, B.J.; Hauschild, R.; Mokwa, W.; Scholles, M.; Trieu, H.-K.
Konferenzbeitrag
1995Phosphourus-enhanced diffusion of antimony due to generation of self-interstitials
Pichler, P.; Ryssel, H.; Ploß, R.; Bonafos, C.; Claverie, A.
Zeitschriftenaufsatz
1993Gas sensors based on ion implanted SnO2 thin-films.
Steiner, K.; Sulz, G.; Schweizer, W.; Wagner, E.
Konferenzbeitrag
1993High energy implantation of high10 B and high11 B into -100- silicon in channel and in random
Gong, L.; Frey, L.; Bogen, S.; Ryssel, H.
Zeitschriftenaufsatz
1993Photon assisted implantation -PAI-
Biro, L.P.; Gyulai, J.; Ryssel, H.; Frey, L.; Kormany, T.; Tuan, N.M.
Zeitschriftenaufsatz
1992Implanted thin-film SnO2 gas sensors.
Sulz, G.; Löw, H.; Lacher, M.; Kühner, G.; Reiter, H.; Uptmoor, G.; Schweizer, W.; Steiner, K.
Konferenzbeitrag
1992Ni, In and Sb implanted Pt and V catalysed thin-film SnO2 gas sensors
Sulz, G.; Kühner, G.; Reiter, H.; Uptmoor, G.; Schweizer, W.; Löw, H.; Lacher, M.; Steiner, K.
Konferenzbeitrag
1992Potential of photon and particle beams for surface treatment of thin ceramic coatings
Celis, J.P.; Franck, M.; Roos, J.R.; Kreutz, E.W.; Gasser, A.; Wehner, M.; Wissenbach, K.; Pattyn, N.
Zeitschriftenaufsatz
1992Thin-film In-doped V-catalysed SnO2 gas sensors.
Löw, H.; Sulz, G.; Lacher, M.; Kühner, G.; Uptmoor, G.; Reiter, H.; Steiner, K.
Zeitschriftenaufsatz
1991Ambient and low temperature photoluminescence topography of GaAs substrates, epitaxial and implanted layers.
Wang, Z.M.; As, D.J.; Jantz, W.; Windscheif, J.
Zeitschriftenaufsatz
1990Implantation effects on resonant raman scattering in CdTe and Cd0.23Hg0.77Te.
Lusson, A.; Bruder, M.; Koidl, P.; Ramsteiner, M.; Wagner, J.
Zeitschriftenaufsatz
1989A flexible target chamber for a Varian 350 DF implanter
Kluge, A.; Ryssel, H.; Schork, R.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
1989Simulation halbleitertechnologischer Prozess-Schritte in der Mikroelektronik
Lorenz, J.; Pelka, J.; Ryssel, H.
Zeitschriftenaufsatz
1988Channeling of Si during implantation into GaAs for MESFETs
Maier, M.; Bachem, K.H.; Hornung, J.
Konferenzbeitrag
1985Luminescence of the rare-earth ion ytterbium in InP, GaP, and GaAs
Pomrenke, G.; Axmann, A.; Ennen, H.
Zeitschriftenaufsatz
1983CO2-laser annealing of ion implanted silicon - relaxation characteristics of metastable concentrations
Goetzlich, J.; Tsien, P.H.; Henghuber, G.; Ryssel, H.
Aufsatz in Buch
1983Implantation and diffusion models for process simulation
Ryssel, H.; Prinke, G.; Hoffmann, K.
Aufsatz in Buch
1983Implantation doping of germanium with Be, Mg, Zn und B-ions
Metzger, M.; Zhang, Z.; Schmiedt, B.; Ryssel, H.
Aufsatz in Buch
1983The lateral-extension of radiation damage in ion-implanted semiconductors.
Fritzsche, C.R.; Rothemund, W.
Zeitschriftenaufsatz
1983Low cost analog signal fiber link with 300 keV isolation
Kranz, H.; Steiner, S.
Aufsatz in Buch
1983Rare earth activated luminescence in InP, GaP and GaAs.
Pomrenke, G.; Schneider, J.; Axmann, A.; Kaufmann, U.; Ennen, H.; Windscheif, J.
Zeitschriftenaufsatz
1983Studies on the lattice position of boron in silicon
Fink, D.; Carstanjen, H.D.; Jahnel, F.; Muller, K.; Ryssel, H.; Osei, A.; Biersack, J.P.
Zeitschriftenaufsatz
1982Baron ion implantation in Hg(1-x)Cd(x)Te
Baars, J.; Hurrle, A.; Rothemund, W.; Fritzsche, C.R.; Jakobus, T.
Zeitschriftenaufsatz
1982Recent results of implantation studies
Pott, F.; Schlipkoeter, H.W.; Ziem, U.; Spurny, K.R.; Huth, F.
Aufsatz in Buch
1981Annealing of boron-implanted silicon using a CW CO2-laser.
Tsien, P.H.; Tsou, S.C.; Takai, M.; Roeschenthaler, D.; Ramin, M.; Ryssel, H.; Ruge, I.; Wittmaack, K.
Zeitschriftenaufsatz
1981Arsenic implanted polysilicon layers.
Ryssel, H.; Bleier, M.; Prinke, G.; Haberger, K.; Kranz, H.; Iberl, F.
Zeitschriftenaufsatz
1981CO2 laser annealing characteristics of high-dose boron and arsenic-implanted silicon.
Tsien, P.H.; Goetzlich, J.; Ryssel, H.; Ruge, I.
Zeitschriftenaufsatz
1981Description of arsenic and boron profiles implanted into SiO2, Si3N4, and Si using Pearson distributions with four moments.
Jahnel, J.; Ryssel, H.; Prinke, G.; Hoffmann, K.; Mueller, K.; Henkelmann, R.; Biersack, J.P.
Zeitschriftenaufsatz
1981Nd-YAG laser annealing of arsenic-implanted silicon - dependence upon scanning speed and power density.
Tsien, P.H.; Ryssel, H.; Roeschenthaler, D.; Ruge, I.
Zeitschriftenaufsatz
1981Nd-YAG laser annealing of arsenic-implanted silicon - Relaxation of metastable concentration by means of CO2-laser irradiation.
Tsien, P.H.; Ryssel, H.; Roeschenthaler, D.; Ruge, I.
Zeitschriftenaufsatz
1981Nd-YAG laser annealing of gallium-implanted silicon.
Takai, M.; Tsou, S.C.; Tsien, P.H.; Roeschenthaler, D.; Ryssel, H.
Zeitschriftenaufsatz
1981Tapered windows in SiO2, Si3N4, and polysilicon layers by ion implantation.
Goetzlich, G.; Ryssel, H.
Zeitschriftenaufsatz