Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2017Accelerators and Industry
Chimielewski, Andrzei; Chiari, Massimo; Rögner, Frank-Holm
Aufsatz in Buch
2012Enhanced e-beam pattern writing for nano-optics based on character projection
Kley, Ernst-Bernhard; Schmidt, Holger; Zeitner, Uwe; Banasch, Michael; Schnabel, Bernd
Konferenzbeitrag
2011Electrostatic clamping with an EUVL mask chuck: Particle issues
Kalkowski, G.; Zeuske, J.R.; Risse, S.; Müller, S.; Peschel, T.; Rohde, M.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2011Variable-shaped e-beam lithography enabling process development for future copper damascene technology
Jaschinsky, P.; Erben, J.-W.; Choi, K.-H.; Schulze, K.; Gutsch, M.; Freitag, M.; Schulz, S.E.; Steidel, K.; Hohle, C.; Gessner, T.; Kücher, P.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2010Determination of local electrostatic forces for EUVL mask chucks
Kalkowski, G.; Peschel, T.; Risse, S.; Müller, S.; Engelstad, R.L.; Zeuske, J.R.; Vukkadala, P.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2000Electron-beam lithography data preparation based on multithreading MGS/PROXECCO
Eichhorn, H.; Lemke, M.; Gramss, J.; Bürger, B.; Bätz, U.; Belic, N.; Eisenmann, H.
Konferenzbeitrag
1994Antiresonant reflecting optical waveguides in strip configuration
Gehler, J.; Bräuer, A.; Karthe, W.
Zeitschriftenaufsatz
1994Remote coupling over 93 mym using ARROW waveguides in strip configuration
Gehler, J.; Bräuer, A.; Karthe, W.
Zeitschriftenaufsatz
1991GaAs/AlGaAs HEMT's with sub 0.5 mym gatelength written by E-beam and recessed by dry-etching for direct-coupled FET logic -DCFL-
Hülsmann, A.; Kaufel, G.; Raynor, B.; Glorer, K.H.; Olander, E.; Weismann, B.; Schneider, J.; Jakobus, T.; Koehler, K.
Konferenzbeitrag