Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2014ALD ZrO2 processes for BEoL device applications
Weinreich, Wenke; Seidel, Konrad; Polakowski, Patrick; Riedel, Stefan; Wilde, Lutz; Sundqvist, Jonas; Triyoso, Dina H.; Nolan, Mark G.
Konferenzbeitrag
2014Aluminum oxide from trimethylaluminum and water by atomic layer deposition: The temperature dependence of residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion
Ylivaara, O.M.E.; Liu, X.; Kilpi, L.; Lyytinen, J.; Schneider, D.; Laitinen, M.; Julin, J.; Ali, S.; Sintonen, S.; Berdova, M.; Haimi, E.; Sajavaara, T.; Ronkainen, H.; Lipsanen, H.; Koskinen, J.; Hannula, S.-P.; Puurunen, R.L.
Zeitschriftenaufsatz
2014Densification of thin aluminum oxide films by thermal treatments
Cimalla, V.; Baeumler, M.; Kirste, L.; Prescher, M.; Christian, B.; Passow, T.; Benkhelifa, F.; Bernhardt, F.; Eichapfel, G.; Himmerlich, M.; Krischok, S.; Pezoldt, J.
Zeitschriftenaufsatz
2014An ultra-black silicon absorber
Steglich, Martin; Lehr, Dennis; Ratzsch, Stephan; Käsebier, Thomas; Schrempel, Frank; Kley, Ernst-Bernhard; Tünnermann, Andreas
Zeitschriftenaufsatz
2013Activation of Al2O3 passivation layers on silicon by microwave annealing
Ziegler, J.; Otto, M.; Sprafke, A.N.; Wehrspohn, R.B.
Zeitschriftenaufsatz
2013Detailed leakage current analysis of metal-insulator-metal capacitors with ZrO2, ZrO2/SiO2/ZrO2, and ZrO2/Al2O3/ZrO2 as dielectric and TiN electrodes
Weinreich, W.; Shariq, A.; Seidel, K.; Sundqvist, J.; Paskaleva, A.; Lemberger, M.; Bauer, A.J.
Zeitschriftenaufsatz, Konferenzbeitrag
2013Evaluation of an advanced dual hard mask stack for high resolution pattern transfer
Paul, Jan; Rudolph, M.; Riedel, S.; Thrun, X.; Wege, S.; Hohle, C.
Konferenzbeitrag
2013Highly efficient broadband blazed grating in resonance domain
Oliva, Maria; Michaelis, Dirk; Fuchs, Frank; Tünnermann, Andreas; Zeitner, Uwe Detlef
Zeitschriftenaufsatz
2013Structural properties of as deposited and annealed ZrO2 influenced by atomic layer deposition, substrate, and doping
Weinreich, W.; Wilde, L.; Müller, J.; Sundqvist, J.; Erben, E.; Heitmann, J.; Lemberger, M.; Bauer, A.J.
Zeitschriftenaufsatz
2012Interface and material characterization of thin ALD-Al2O3 layers on crystalline silicon
Naumann, V.; Otto, M.; Wehrspohn, R.B.; Werner, M.; Hagendorf, C.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2011Atomic layer deposition of iridium thin films and their application in gold electrodeposition
Szeghalmi, A.; Arnold, M.; Berger, A.; Schammelt, N.; Füchsel, K.; Knez, M.; Kley, E.-B.; Zahn, D.R.T.; Tünnermann, A.
Konferenzbeitrag
2011Atomic layer deposition of ruthenium films from (Ethylcyclopentadienyl)(pyrrolyl)ruthenium and oxygen
Kukli, K.; Kemeli, M.; Puukilainen, E.; Aarik, J.; Aidla, A.; Sjavaara, T.; Laitinen, M.; Tallarida, M.; Sundqvist, J.; Ritala, M.; Leskela, M.
Zeitschriftenaufsatz
2009Greatly increased toughness of infiltrated spider silk
Lee, S.-M.; Pippel, E.; Gösele, U.; Dresbach, C.; Qin, Y.; Chandran, C.V.; Bräuniger, T.; Hause, G.; Knez, M.
Zeitschriftenaufsatz
2009Low-temperature ZnO atomic layer deposition on biotemplates
Lee, S.-M.; Grass, G.; Kim, G.-M.; Dresbach, C.; Zhang, L.; Gösele, U.; Knez, M.
Zeitschriftenaufsatz