Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
1993CMOS-kompatibler kapazitiver Siliziumdrucksensor in Oberflächenmikromechanik
Kandler, M.
Dissertation
1991Avoidance of substrate damage upon laser recrystallization of a SOI layer
Wel, W. van der; Seitz, S.; Weber, J.; Buchner, R.; Haberger, K.; Seegebrecht, P.
Zeitschriftenaufsatz
1989An advanced fabrication process for 3D-CMOS devices
Buchner, R.; Haberger, K.; Seitz, S.; Weber, J.; Wel, W. van der; Seegebrecht, P.
Konferenzbeitrag
1989Laser recrystallization for three-dimensional integration
Buchner, R.; Haberger, K.; Seitz, S.; Weber, J.; Wel, W. van der; Seegebrecht, P.
Konferenzbeitrag
1989Laser recrystallization of polysilicon for improved device quality
Buchner, R.; Haberger, K.; Hu, B.
Aufsatz in Buch
1989Process technology for 3D-CMOS devices
Buchner, R.; Haberger, K.; Seitz, S.; Weber, J.; Wel, W. van der; Seegebrecht, P.
Konferenzbeitrag
1989Substrate damage free laser recrystallization of polysilicon
Buchner, R.; Haberger, K.; Wel, W. van der; Seegebrecht, P.
Konferenzbeitrag
1989Substrate-damage-free laser recrystallization of polycrystalline silicon
Buchner, R.; Haberger, K.; Wel, W. van der; Seegebrecht, P.
Zeitschriftenaufsatz
1983Anwendung des Laserausheilens fuer Halbleiterbauelemente
Ryssel, H.; Goetzlich, J.
Zeitschriftenaufsatz
1983Laser annealing
Ryssel, H.; Goetzlich, J.
Aufsatz in Buch
1983Laser-recrystallized polycristalline silicon resistors for integrated circuits application
Schaber, H.; Cutter, D.; Obermeier, E.; Binder, J.
Zeitschriftenaufsatz
1982Entwicklung von Dünnfilm-Sensoren
Obermeier, E.
Konferenzbeitrag
1982Polykristalline Siliziumschichten als Basismaterial fuer Sensoren
Obermeier, E.; Reichl, H.
Konferenzbeitrag
1982Polysilicon thin films for sensor applications
Obermeier, E.
Konferenzbeitrag
1981Arsenic implanted polysilicon layers.
Ryssel, H.; Bleier, M.; Prinke, G.; Haberger, K.; Kranz, H.; Iberl, F.
Zeitschriftenaufsatz
1981Tapered windows in SiO2, Si3N4, and polysilicon layers by ion implantation.
Goetzlich, G.; Ryssel, H.
Zeitschriftenaufsatz