Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2008Plasma enhanced chemical etching at atmospheric pressure for crystalline silicon wafer processing and process control by in-line FTIR gas spectroscopy
Linaschke, D.; Leistner, M.; Mäder, G.; Grählert, W.; Dani, I.; Kaskel, S.; Lopez, E.; Hopfe, V.; Kirschmann, M.; Frenck, J.
Konferenzbeitrag
2008Silicon nitride films deposited by atmospheric pressure microwave PECVD
Dresler, B.; Roch, J.; Leupolt, B.; Dani, I.; Hopfe, V.; Heintze, M.; Möller, R.
Konferenzbeitrag