Publica
Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten. | | |
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| 2008 | Plasma enhanced chemical etching at atmospheric pressure for crystalline silicon wafer processing and process control by in-line FTIR gas spectroscopy
Linaschke, D.; Leistner, M.; Mäder, G.; Grählert, W.; Dani, I.; Kaskel, S.; Lopez, E.; Hopfe, V.; Kirschmann, M.; Frenck, J. | Konferenzbeitrag |
| 2008 | Silicon nitride films deposited by atmospheric pressure microwave PECVD
Dresler, B.; Roch, J.; Leupolt, B.; Dani, I.; Hopfe, V.; Heintze, M.; Möller, R. | Konferenzbeitrag |