Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2013Grain size dependent physical and chemical properties of thick CVD diamond films for high energy density physics experiments
Dawedeit, C.; Kucheyev, S.O.; Shin, S.J.; Willey, T.M.; Bagge-Hansen, M.; Braun, T.; Wang, Y.M.; El-Dasher, B.S.; Teslich, N.E.; Biener, M.M.; Ye, J.; Kirste, L.; Röhlig, C.-C.; Wolfer, M.; Wörner, E.; Buuren, A.W. van; Hamza, A.V.; Wild, C.; Biener, J.
Zeitschriftenaufsatz
2010Controlled incorporation of mid-to-high Z transition metals in CVD diamond
Biener, M.M.; Biener, J.; Kucheyev, S.O.; Wang, Y.M.; El-Dasher, B.S.; Teslich, N.E.; Hamza, A.V.; Obloh, H.; Müller-Sebert, W.; Wolfer, M.; Fuchs, F.; Grimm, M.; Kriele, A.; Wild, C.
Konferenzbeitrag, Zeitschriftenaufsatz
2010Correlation between composition and stress for high density plasma CVD silicon nitride films
Sah, R.E.; Baumann, H.; Driad, R.; Wagner, J.
Zeitschriftenaufsatz
2007Dauerhaft schön - Kratzschutz durch Atmosphärendruck-Plasmaverfahren
Dani, I.; Kotte, L.; Tschoecke, S.; Linaschke, D.; Rogler, D.; Hopfe, V.
Zeitschriftenaufsatz
2007New developments in plasma enhanced chemical etching at atmospheric pressure for crystalline silicon wafer processing
Lopez, E.; Beese, H.; Mäder, G.; Dani, I.; Hopfe, V.; Heintze, M.; Moeller, R.; Wanka, H.; Kirschmann, M.; Frenck, J.A. et al.
Konferenzbeitrag
2006Aluminium-rich Ti(1-x)Al(x)N coatings by CVD
Endler, I.; Herrmann, M.; Naupert, M.; Pitonak, R.; Ruppi, S.; Schneider, M.; Berg, H. van den; Westphal, H.
Konferenzbeitrag
2006Atmospheric pressure PECVD and atmospheric plasma chemical etching for continuous processing of crystalline silicon solar wafers
Hopfe, V.; Dani, I.; Lopez, E.; Rosina, M.; Mäder, G.; Möller, R.; Wanka, H.; Heintze, M.
Konferenzbeitrag
2002Thermoelectric Si(1-x)Ge(x) and PbTe thin films for device applications
Künzel, C.; Beyer, H.; Braun, M.; Feißt, A.; Lambrecht, A.; Nurnus, J.; Plescher, G.; Vetter, U.
Konferenzbeitrag
2001Internal stresses and lifetime evaluation of PECVD isolating layers
Dommann, A.; Herres, N.; Krink, M.; Galiano, J.J.; Stämpfli, B.
Zeitschriftenaufsatz
1999Simulation and development of optimized microwave plasma reactors for diamond deposition
Füner, M.; Wild, C.; Koidl, P.
Zeitschriftenaufsatz
1992Verbundprojekt - Neue Dünnschichtverfahren durch "molecular engineering" metallorganischer Verbindungen. Teilvorhaben - Untersuchung der Plasmaparameter
Weber, A.; Bringmann, U.; Nikulski, R.; Klages, C.-P.
Konferenzbeitrag