Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2018Approach to combine electron-beam lithography and two-photon polymerization for enhanced nano-channels in network-based biocomputation devices
Heldt, Georg; Meinecke, Christoph; Steenhusen, Sönke; Korten, Till; Groß, Matteo; Domann, Gerhard; Lindberg, F.; Reuter, Danny; Diez, S.; Linke, H.; Schulz, Stefan E.
Konferenzbeitrag
2017Strategies for rapid and reliable fabrication of microoptical structures using two-photon polymerization
Steenhusen, Sönke; Hasselmann, Sebastian; Domann, Gerhard
Konferenzbeitrag
2016Additive manufacturing of ceramics: Stereolithography versus binder jetting
Nachum, Sarig; Vogt, Joachim; Raether, Friedrich
Zeitschriftenaufsatz
2014Compact mask models for optical projection lithography
Agudelo Moreno, Viviana
: Erdmann, Andreas
Dissertation
2014Periodic nanostructures imprinted on high-temperature stable sol-gel films by ultraviolet-based nanoimprint lithography for photovoltaic and photonic applications
Back, Franziska; Bockmeyer, Matthias J.; Rudigier-Voigt, Eveline; Löbmann, Peer
Zeitschriftenaufsatz
2012Direkte Fabrikation periodischer Muster auf Polymeren mit Hilfe von UV-Laserinterferenzstrukturierung
Lasagni, A.F.; Langheinrich, D.
Konferenzbeitrag
2011"Es werde Licht!" 50 Jahre Laser und deren Bedeutung für unsere Generation des elektronischen Zeitalters
Rudolph, Oliver
Konferenzbeitrag
2009Direct laser interference patterning
Lasagni, A.
Konferenzbeitrag
2008Light scattering of optical components at 193 nm and 13.5 nm
Schröder, S.
Dissertation
2006High-speed data storage and processing for projection mask-less lithography systems
Voss, S.-H.; Talmi, M.; Saniter, J.; Eindorf, J.; Reisig, A.; Heinitz, J.; Haugeneder, E.
Zeitschriftenaufsatz
2006Lossless high-speed data compression for optical interconnects as used in maskless lithography systems
Voss, S.-H.; Talmi, M.
Zeitschriftenaufsatz
2005Lithographieverfahren
Notthoff, C.
Zeitschriftenaufsatz
2001Design and fabrication of micromirror arrays for UV-lithography
Lakner, H.; Dürr, P.; Dauderstädt, U.; Doleschal, W.; Amelung, J.
Konferenzbeitrag
2001Integrated metrology. An enabler for advanced process control (APC)
Schneider, C.; Pfitzner, L.; Ryssel, H.
Konferenzbeitrag
2000Entwicklung eines Herstellungsprozesses für niederohmige, vertikale Leistungs-MOS-Transistoren in Trenchtechnologie unter Verwendung von nur drei Lithographieschritten
Wahl, Uwe
Dissertation
2000Multilayerbearbeitung mit Excimer-Laserstrahlung für die integrierte Optoelektronik und Sensorik
Sommer, M.H.
Dissertation
1997Integrated three-dimensional topography simulation of contact hole processing
Bär, E.; Benvenuti, A.; Henke, W.; Jünemann, B.; Kalus, C.; Niedermaier, P.; Lorenz, J.
Konferenzbeitrag
1996Auflösungsverbesserung der optischen Lithographie mit transparenten phasenschiebenden Masken zur Herstellung von Lackstrukturen im Sub-0.25-Mikrometer-Bereich
Lengsfeld, M.
Diplomarbeit
1994MGS, Generierung von Ansteuerdaten für ZBA-ebeam Schreiber
Bätz, U.; Kreißig, B.; Kunze, K.; Lingner, T.
Konferenzbeitrag
1994Technologie zur Herstellung modulationsdotierter Feldeffekttransistoren -MODFETs- unter Verwendung der Elektronenstrahl-Lithographie
Hülsmann, A.
Dissertation
1992Silicon technologies for sensor fabrication
Mokwa, W.
Aufsatz in Buch
1990Untersuchungen über Regelparameter in einer Lithographiezelle
Pfitzner, L.; Ryssel, H.; Temmel, G.; Zielonka, G.
Konferenzbeitrag
1989Entwicklung von Prozessmodulen und in-situ-Meßmethoden für ein Flexibles Fotolithografisches Prozeßzentrum
Temmel, G.; Zielonka, G.; Olbrich, H.; Mann, R.; Pfitzner, L.; Ryssel, H.
Konferenzbeitrag
1989The plasma focus as soft x-ray source for microscopy and lithography.
Richter, F.; Eberle, J.; Holz, R.; Neff, W.; Lebert, R.
Konferenzbeitrag
1989Programs for VLSI process simulation
Pichler, P.; Lorenz, J.; Pelka, J.; Ryssel, H.
Konferenzbeitrag
1984E-beam metrology of chromium master masks and masks for x-ray lithography
Betz, H.; Heuberger, A.; Bruenger, W.H.; Mueller, K.P.
Zeitschriftenaufsatz
1984Lithographie
Mader, H.
Aufsatz in Buch
1984Technologie fuer immer kleinere Strukturen
Heuberger, A.
Zeitschriftenaufsatz
1984X-ray investigations of boron- and germanium doped silicon epitaxial layers
Herzog, H.-J.; Csepregi, L.; Seidel, H.
Zeitschriftenaufsatz
1983Application of novolack resist systems in x-ray mask fabrication
Pongratz, S.; Betz, H.; Heuberger, A.
Konferenzbeitrag
1983E-beam two-coordinate measuring tool for high precision metrology in micro-lithographie
Betz, H.; Heuberger, A.; Somers, J.M.; Bruenger, W.H.
Konferenzbeitrag
1983Heating and temperatur induced distortions of silicon X-ray masks
Heinrich, H.; Betz, H.; Heuberger, A.
Konferenzbeitrag
1983Investigation of X-ray exposure using plane scanning mirrors
Bieber, M.; Betz, H.; Heuberger, A.
Zeitschriftenaufsatz
1983Ion beam lithography
Ryssel, H.; Haberger, K.
Aufsatz in Buch
1983Properties of crosslinked positiv-acting X-ray, resists, fabricated on the basis of poly
Asmussen, F.; Betz, H.; Chen, B.T.; Heuberger, A.; Pongratz, S.; Sotobayashi, H.; Schnabel, W.
Zeitschriftenaufsatz
1983Simulation of the lithographic properties of ion-beam resists
Haberger, K.; Hoffmann, K.; Forster, M.; Ryssel, H.
Aufsatz in Buch
1982Degradation of polymethylmethacrylate by synchrotron radiation.
Sotobayashi, H.; Asmussen, F.; Thimm, K.; Schnabel, W.; Betz, H.; Einfeld, D.
Zeitschriftenaufsatz
1982Production of separation nozzle systems for Uranium enrichment by a combination of X-ray lithographie and galvanoplastics
Becker, E.W.; Betz, H.; Ehrfeld, W.; Glashauser, W.; Heuberger, A.; Michel, H.J.; Muenchmeyer, D.; Pongratz, S.; Siemens, R.v.
Zeitschriftenaufsatz
1981Computer simulations of resit profiles in X-ray-lithographie.
Heinrich, K.; Betz, H.; Heuberger, A.; Pongratz, S.
Zeitschriftenaufsatz
1981Distortion measurements on pure-silicon and siliconplastic X-ray masks
Triantafyllou, M.; Betz, H.; Heuberger, A.; Tischer, P.
Konferenzbeitrag
1981Ion beam sensitivity of polymer resists.
Ryssel, H.; Haberger, K.; Kranz, H.
Zeitschriftenaufsatz
1981Present status and problems of X-ray lithography.
Betz, H.; Heuberger, A.
Konferenzbeitrag
1981Resist investigation for ion-beam lithography.
Ryssel, H.; Kranz, H.; Haberger, K.; Bosch, J.
Konferenzbeitrag
1981Wege zu hoeherer Integrationsdichte. Tl.1. Roentgenstrahlen fuer Hoechstintegration. Tl.2
Heuberger, A.; Betz, H.
Zeitschriftenaufsatz