Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
1996Fast layout data processing and repetitive structure exposure for high throughput e-beam lithography
Gramms, J.; Eichhorn, H.; Baetz, U.
Konferenzbeitrag
1994Antiresonant reflecting optical waveguides in strip configuration
Gehler, J.; Bräuer, A.; Karthe, W.
Zeitschriftenaufsatz
1994Remote coupling over 93 mym using ARROW waveguides in strip configuration
Gehler, J.; Bräuer, A.; Karthe, W.
Zeitschriftenaufsatz
1993Stability of an AlGaAs/GaAs/AlGaAsE/D-HEMT process with double pulse doping
Jakobus, T.; Bronner, W.; Hofmann, P.; Hülsmann, A.; Kaufel, G.; Köhler, K.; Landsberg, B.; Raynor, B.; Schneider, J.; Grün, N.; Windscheif, J.; Berroth, M.; Hornung, J.
Konferenzbeitrag
1992Mushroom shaped gates in a dry etched recessed gate process
Kaufel, G.; Hülsmann, A.; Raynor, B.; Hofmann, P.; Schneider, J.; Hornung, J.; Jakobus, T.; Berroth, M.; Köhler, K.
Konferenzbeitrag
1991Mushroom shaped gates defined by e-beam lithography down to 80 nm gate lengths and fabrication of pseudomorphic HEMTs with a dry-etched gate recess.
Hülsmann, A.; Kaufel, G.; Raynor, B.; Schweizer, T.; Braunstein, J.; Schlechtweg, M.; Tasker, P.; Jakobus, T.; Köhler, K.
Konferenzbeitrag
1990E-beam direct-write in a dry-etched recess gate HEMT process for GaAs/AlGaAs circuits
Hülsmann, A.; Kaufel, G.; Raynor, B.; Schneider, J.; Jakobus, T.; Köhler, K.
Zeitschriftenaufsatz
1989Overlay precision between electron beam and optical lithography systems for a mix and match GaAs technology.
Patrick, W.; Glorer, K.; Schneider, J.
Zeitschriftenaufsatz