Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2007CMOS Silicon-on-Insulator technology: An alternative for NIR quantum efficiency enhanced CMOS imaging pixel detectors
Durini, D.; Enowbi, K.E.; Brockherde, W.; Hosticka, B.J.
Conference Paper
2007Model parameter extraction for the high voltage SOI-process using BSIMSO13 model and ICCAP
Pieczynski, J.; Gneiting, T.
Conference Paper
2006CMOS integrated pixel array for low-level radiation detection using "time compression" parametric amplification
Durini, D.; Kemna, A.; Brockherde, W.; Hosticka, B.J.
Conference Paper, Journal Article
2000A 1-Kbit EEPROM in SIMOX technology for high-temperature applications up to 250 deg C
Gogl, D.; Fiedler, H.-L.; Spitz, M.; Parmentier, B.
Journal Article
2000Herstellung und Charakterisierung lokaler Silizium-auf-Isolator-Substrate
Bentum, R. van
Dissertation
2000Optimization of vertical 600 and 1500 V SOI-ESTs with low on-state voltages
Steck, B.; Vogt, H.
Journal Article
2000Smart power integration on SOI: thin and thick film (local) SOI processes and devices
Paschen, U.; Weyers, J.; Bentum, R. van; Steck, B.; Vogt, F.P.; Vogt, H.
Conference Paper
2000Vertikaler EST (Emitter Switched Thyristor) mit SIMOX-Transistor für intelligente Leistungshalbleiter
Steck, B.
Dissertation
1996Design automation of digital circuits for partially depleted SOI-technology
Sikora, A.; Fiedler, H.-L.
Conference Paper
1996Entwicklung eines CMOS-kompatiblen Smart-Power-Prozesses zur Herstellung intelligenter Leistungshalbleiter auf SIMOX-Substraten
Vogt, F.P.
Dissertation
1994Ein Charge-Sheet-Modell des Silicon-on-Insulator MOS-Transistors für die Schaltungssimulation
Abel, H.B.
Dissertation
1992An advanced CAD model for the thin-film SOI MOSFET
Abel, H.B.; Berger, M.; Zimmer, G.
Conference Paper
1992Silicon technologies for sensor fabrication
Mokwa, W.
Book Article
1991Strukturelle und morphologische Erscheinungen bei der Rekristallisation von SIMOX-Wafern
Vöhse, H.; Burbach, G.; Gassel, H.; Höch, A.
Conference Paper
1990Untersuchung und Entwicklung der CMOS-Technologie auf vergrabenem Isolator als einer neuen VLSI-Technologie. Berichtszeitraum 01.07.1987 - 31.09.1990. BMFT-Abschlußbericht 110620
Abel, H.B.; Gassel, H.; Belz, J.; Burbach, G.; Vogt, H.; Debusmann, K.; Peter-Weidemann, J.; Redlich, S.; Götzen, R.
Book