Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2018Approach to combine electron-beam lithography and two-photon polymerization for enhanced nano-channels in network-based biocomputation devices
Heldt, Georg; Meinecke, Christoph; Steenhusen, Sönke; Korten, Till; Groß, Matteo; Domann, Gerhard; Lindberg, F.; Reuter, Danny; Diez, S.; Linke, H.; Schulz, Stefan E.
Conference Paper
2017Strategies for rapid and reliable fabrication of microoptical structures using two-photon polymerization
Steenhusen, Sönke; Hasselmann, Sebastian; Domann, Gerhard
Conference Paper
2016Additive manufacturing of ceramics: Stereolithography versus binder jetting
Nachum, Sarig; Vogt, Joachim; Raether, Friedrich
Journal Article
2014Compact mask models for optical projection lithography
Agudelo Moreno, Viviana
: Erdmann, Andreas
Dissertation
2014Periodic nanostructures imprinted on high-temperature stable sol-gel films by ultraviolet-based nanoimprint lithography for photovoltaic and photonic applications
Back, Franziska; Bockmeyer, Matthias J.; Rudigier-Voigt, Eveline; Löbmann, Peer
Journal Article
2012Direkte Fabrikation periodischer Muster auf Polymeren mit Hilfe von UV-Laserinterferenzstrukturierung
Lasagni, A.F.; Langheinrich, D.
Conference Paper
2011"Es werde Licht!" 50 Jahre Laser und deren Bedeutung für unsere Generation des elektronischen Zeitalters
Rudolph, Oliver
Conference Paper
2009Direct laser interference patterning
Lasagni, A.
Conference Paper
2008Light scattering of optical components at 193 nm and 13.5 nm
Schröder, S.
Dissertation
2006High-speed data storage and processing for projection mask-less lithography systems
Voss, S.-H.; Talmi, M.; Saniter, J.; Eindorf, J.; Reisig, A.; Heinitz, J.; Haugeneder, E.
Journal Article
2006Lossless high-speed data compression for optical interconnects as used in maskless lithography systems
Voss, S.-H.; Talmi, M.
Journal Article
2005Lithographieverfahren
Notthoff, C.
Journal Article
2001Design and fabrication of micromirror arrays for UV-lithography
Lakner, H.; Dürr, P.; Dauderstädt, U.; Doleschal, W.; Amelung, J.
Conference Paper
2001Integrated metrology. An enabler for advanced process control (APC)
Schneider, C.; Pfitzner, L.; Ryssel, H.
Conference Paper
2000Entwicklung eines Herstellungsprozesses für niederohmige, vertikale Leistungs-MOS-Transistoren in Trenchtechnologie unter Verwendung von nur drei Lithographieschritten
Wahl, Uwe
Dissertation
2000Multilayerbearbeitung mit Excimer-Laserstrahlung für die integrierte Optoelektronik und Sensorik
Sommer, M.H.
Dissertation
1997Integrated three-dimensional topography simulation of contact hole processing
Bär, E.; Benvenuti, A.; Henke, W.; Jünemann, B.; Kalus, C.; Niedermaier, P.; Lorenz, J.
Conference Paper
1996Auflösungsverbesserung der optischen Lithographie mit transparenten phasenschiebenden Masken zur Herstellung von Lackstrukturen im Sub-0.25-Mikrometer-Bereich
Lengsfeld, M.
Thesis
1994MGS, Generierung von Ansteuerdaten für ZBA-ebeam Schreiber
Bätz, U.; Kreißig, B.; Kunze, K.; Lingner, T.
Conference Paper
1994Technologie zur Herstellung modulationsdotierter Feldeffekttransistoren -MODFETs- unter Verwendung der Elektronenstrahl-Lithographie
Hülsmann, A.
Dissertation
1992Silicon technologies for sensor fabrication
Mokwa, W.
Book Article
1990Untersuchungen über Regelparameter in einer Lithographiezelle
Pfitzner, L.; Ryssel, H.; Temmel, G.; Zielonka, G.
Conference Paper
1989Entwicklung von Prozessmodulen und in-situ-Meßmethoden für ein Flexibles Fotolithografisches Prozeßzentrum
Temmel, G.; Zielonka, G.; Olbrich, H.; Mann, R.; Pfitzner, L.; Ryssel, H.
Conference Paper
1989The plasma focus as soft x-ray source for microscopy and lithography.
Richter, F.; Eberle, J.; Holz, R.; Neff, W.; Lebert, R.
Conference Paper
1989Programs for VLSI process simulation
Pichler, P.; Lorenz, J.; Pelka, J.; Ryssel, H.
Conference Paper
1984E-beam metrology of chromium master masks and masks for x-ray lithography
Betz, H.; Heuberger, A.; Bruenger, W.H.; Mueller, K.P.
Journal Article
1984Lithographie
Mader, H.
Book Article
1984Technologie fuer immer kleinere Strukturen
Heuberger, A.
Journal Article
1984X-ray investigations of boron- and germanium doped silicon epitaxial layers
Herzog, H.-J.; Csepregi, L.; Seidel, H.
Journal Article
1983Application of novolack resist systems in x-ray mask fabrication
Pongratz, S.; Betz, H.; Heuberger, A.
Conference Paper
1983E-beam two-coordinate measuring tool for high precision metrology in micro-lithographie
Betz, H.; Heuberger, A.; Somers, J.M.; Bruenger, W.H.
Conference Paper
1983Heating and temperatur induced distortions of silicon X-ray masks
Heinrich, H.; Betz, H.; Heuberger, A.
Conference Paper
1983Investigation of X-ray exposure using plane scanning mirrors
Bieber, M.; Betz, H.; Heuberger, A.
Journal Article
1983Ion beam lithography
Ryssel, H.; Haberger, K.
Book Article
1983Properties of crosslinked positiv-acting X-ray, resists, fabricated on the basis of poly
Asmussen, F.; Betz, H.; Chen, B.T.; Heuberger, A.; Pongratz, S.; Sotobayashi, H.; Schnabel, W.
Journal Article
1983Simulation of the lithographic properties of ion-beam resists
Haberger, K.; Hoffmann, K.; Forster, M.; Ryssel, H.
Book Article
1982Degradation of polymethylmethacrylate by synchrotron radiation.
Sotobayashi, H.; Asmussen, F.; Thimm, K.; Schnabel, W.; Betz, H.; Einfeld, D.
Journal Article
1982Production of separation nozzle systems for Uranium enrichment by a combination of X-ray lithographie and galvanoplastics
Becker, E.W.; Betz, H.; Ehrfeld, W.; Glashauser, W.; Heuberger, A.; Michel, H.J.; Muenchmeyer, D.; Pongratz, S.; Siemens, R.v.
Journal Article
1981Computer simulations of resit profiles in X-ray-lithographie.
Heinrich, K.; Betz, H.; Heuberger, A.; Pongratz, S.
Journal Article
1981Distortion measurements on pure-silicon and siliconplastic X-ray masks
Triantafyllou, M.; Betz, H.; Heuberger, A.; Tischer, P.
Conference Paper
1981Ion beam sensitivity of polymer resists.
Ryssel, H.; Haberger, K.; Kranz, H.
Journal Article
1981Present status and problems of X-ray lithography.
Betz, H.; Heuberger, A.
Conference Paper
1981Resist investigation for ion-beam lithography.
Ryssel, H.; Kranz, H.; Haberger, K.; Bosch, J.
Conference Paper
1981Wege zu hoeherer Integrationsdichte. Tl.1. Roentgenstrahlen fuer Hoechstintegration. Tl.2
Heuberger, A.; Betz, H.
Journal Article