Fraunhofer-Gesellschaft

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Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
2019Mikrowellenplasmaunterstützte Prozesse für Anwendungen in der Halbleitertechnologie
Altmannshofer, Stephan
: Kutter, C.; Eisele, I.
Dissertation
2017InGaAs-Avalanche-Photodioden für bildgebende Verfahren im kurzwelligen Infrarot
Kleinow, Philipp
: Lausen, G.; Ambacher, O.; Koos, C.
Dissertation
2017The role of charge trapping in AlGaN/GaN-on-Si HEMT based power switches
Wespel, Matthias
: Wagner, Joachim; Lausen, G.; Ambacher, O.; Schwierz, F.
Dissertation
2014Compact mask models for optical projection lithography
Agudelo Moreno, Viviana
: Erdmann, Andreas
Dissertation
2012Epitaxie von AlGaN-basierten Leuchtdioden für den UV-A-Wellenlängenbereich
Gutt, Richard
Dissertation
2011"Es werde Licht!" 50 Jahre Laser und deren Bedeutung für unsere Generation des elektronischen Zeitalters
Rudolph, Oliver
Conference Paper
2010Chemische Gasphasenabscheidung von Metallsilicatschichten aus Einquellen-Ausgangsstoffen für Anwendungen in der Mikroelektronik
Lemberger, M.
Dissertation
2008Light scattering of optical components at 193 nm and 13.5 nm
Schröder, S.
Dissertation
2007Nano-Raman: Monitoring nanoscale stress
Uhlig, B.; Zollondz, J.-H.; Haberjahn, M.; Bloess, H.; Kücher, P.
Conference Paper
2007PECVD and plasma etching at atmospheric pressure by means of a linearly-extended DC arc plasma source
Dani, I.; Hopfe, V.; Rogler, D.; Lopez, E.; Mäder, G.
Journal Article
2006Dreidimensionale Topographiesimulation der ionisierten Metallplasma-Abscheidung in der Halbleitertechnologie
Kistler, S.
Dissertation
2003CMOS imaging for automotive applications
Hosticka, B.J.; Brockherde, W.; Bussmann, A.; Heimann, T.; Jeremias, R.; Kemna, A.; Nitta, C.; Schrey, O.
Journal Article
2002Algorithmen für die dreiecksbasierte dreidimensionale Simulation bewegter Oberflächen in der Halbleitertechnologie
Lenhart, O.
: Ryssel, H. (Prüfer)
Dissertation
2002On-chip interconnects for next generation system-on-chips
Brinkmann, A.; Niemann, J.-C.; Hehemann, I.; Langen, D.; Porrmann, M.; Rückert, U.
Conference Paper
2001ASMC 2001. CD-ROM
: Kaufmann, T.
Conference Proceedings
2000Grobplanung mit künstlichen neuronalen Netzwerken für die Halbleiterfertigung
Schmidt, T.
Dissertation
2000Three-Dimensional Simulation of the Conformality of Copper Layers Deposited by Low-Pressure Chemical Vapor Deposition from CuI(tmvs)(hfac)
Bär, E.; Lorenz, J.; Ryssel, H.
Journal Article
1999Control and Improvement of Surface Triangulation for Three-Dimensional Process Simulation
Bär, E.; Lorenz, J.
Conference Paper
1999Quo Vadis Media
: Dorner, J.
Conference Proceedings
1998Dreidimensionale Simulation von Schichtabscheideprozessen in der Halbleitertechnologie
Bär, E.
Dissertation
1998Integrated three-dimensional topography simulation and its application to dual-damascene processing
Bär, E.; Henke, W.; List, S.; Lorenz, J.
Conference Paper
1998IT Projects of the European Semiconductor Industry in a Worldwide Context. Proceedings
 
Conference Proceedings
1998Monte-Carlo simulation of silicon amorphization during ion implantation
Bohmayr, W.; Burenkov, A.; Lorenz, J.; Ryssel, H.; Selberherr, S.
Journal Article
1998New Concepts for Electronic Manufacturing Facilities by Using Semiconductor Equipment Standards and Models
Gramann, U.; Frauenhoffer, F.; Sturm, R.; Matuscheck, P.; Suntrup, M.; Kaufmann, T.S.; Schäfer, W.
Conference Paper
1998Three-dimensional simulation of layer deposition
Bär, E.; Lorenz, J.; Ryssel, H.
Journal Article
1998Three-dimensional simulation of SiO2 profiles from TEOS-sourced remote microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition
Bär, E.; Lorenz, J.; Ryssel, H.
Conference Paper
19973D simulation of sputter deposition of titanium layers in contact holes with high aspect ratios
Bär, E.; Lorenz, J.; Ryssel, H.
Conference Paper
19973D simulation of sputter deposition of titanium layers in contact holes with high aspect ratios2
Bär, E.; Lorenz, J.; Ryssel, H.
Conference Paper
1997Atomistic analysis of the vacancy diffusion mechanism
List, S.; Ryssel, H.
Conference Paper
1997Integrated three-dimensional topography simulation of contact hole processing
Bär, E.; Benvenuti, A.; Henke, W.; Jünemann, B.; Kalus, C.; Niedermaier, P.; Lorenz, J.
Conference Paper
1997Modifikation der Oberflächeneigenschaften von Polymeren durch Ionenimplantation
Öchsner, R.
Dissertation
1997Monte-Carlo simulation of silicon amorphization during ion implantation
Bohmayr, W.; Burenkov, A.; Lorenz, J.; Ryssel, H.; Selberherr, S.
Conference Paper
1997Three-dimensional simulation of contact hole metallization using aluminum sputter deposition at elevated temperatures
Bär, E.; Lorenz, J.; Ryssel, H.
Conference Paper
1997Three-dimensional simulation of conventional and collimated sputter deposition of Ti layers into high aspect ratio contact holes
Bär, E.; Lorenz, J.; Ryssel, H.
Conference Paper
1997Three-dimensional simulation of ion implantation
Lorenz, J.; Tietzel, K.; Burenkov, A.; Ryssel, H.
Conference Paper
1996Organisations- und Kommunikationsstrukturen bei der Entwicklung und Fertigung kundenspezifischer Halbleitersensoren
Niemeier, J.; Kriegel, B.; Hermann, S.
Book Article
1996Parameter test software for HP 4062
Pieczynski, J.; Daamen, M.; Voß, D.
Conference Paper
1996Three-dimensional simulation of ion implantation
Tietzel, K.; Burenkov, A.; Lorenz, J.; Ryssel, H.
Conference Paper
1995Schnelle thermische Prozessierung und Charakterisierung dünner nitridierter Oxide
Bauer, A.J.
Dissertation
1995Wolframmetallisierung zum Einsatz bei hohen Temperaturen
Werner, R.; Burbach, G.; Leiberg, W.; Lukat, W.; Dreizner, A.
Conference Paper
1994Advanced SOI MOSFET for low voltage, low power and fast application
Stephan, Rolf; Raab, Michael; Kück, Heinz; Vogt, Holger
Conference Paper
1994Development and characterization of microelectrode arrays by means of electrochemical and surface analysis methods.
Wittkampf, M.; Naendorf, B.; Cammann, K.; Rospert, M.; Mokwa, W.; Hagenhoff, B.; Benninghoven, A.; Amrein, M.; Reichelt, R.; Gründig, B.
Conference Paper
1994Monolithische Integration von Magnetfeld-Sensorelementen und Auswerteschaltungen in CMOS-Technologie
Gottfried-Gottfried, R.; Zimmer, G.
Conference Paper
1993Berechnung komplexer Halbleiter elektronischer Strukturen unter Nutzung von ANSYS-Resultaten in der mehrdimensionalen Devicesimulation
Erlebach, A.; Kunze, D.; Richter, F.; Stephan, R.; Gajewski, H.
Conference Paper
1993Determination of EBIC response by two-dimensional device simulation
Erlebach, A.; Stephan, R.; Dallmann, G.
Conference Paper
1993Halbleitermesse der Superlative. 45000 Besucher auf der Semicon West in San Francisco
Kahlden, T. von
Conference Paper
1993Physikalisch-technologische Untersuchungen zu Kurzkanaltransistoren für die Megabittechnologie
Raab, M.
Dissertation
1993Simulation of sputter deposition process by DUPSIM
Seifert, M.; Richter, F.; Spallek, R.G.
Conference Paper
1993Stability of an AlGaAs/GaAs/AlGaAsE/D-HEMT process with double pulse doping
Jakobus, T.; Bronner, W.; Hofmann, P.; Hülsmann, A.; Kaufel, G.; Köhler, K.; Landsberg, B.; Raynor, B.; Schneider, J.; Grün, N.; Windscheif, J.; Berroth, M.; Hornung, J.
Conference Paper
1993Zweidimensionale Prozeß- und Device-Simulation. Leistungsfähige Methoden der adaptiven Gitterverfeinerung und Techniken zur Manipulation von Ortdiskretisierungen
Erlebach, A.; Hürrich, A.; Stephan, R.; Todt, U.
Conference Paper
1992Fertigung unter Reinraumbedingungen
Dorner, J.
Conference Paper
1991Software hält den Leitstand flexibel. Hardware-Änderungen in einer Fertigungszelle müssen nicht zu langwierigem Umprogrammieren führen
Pluszynski, K.; Schäfer, W.
Journal Article
1991Überblick und Haupttrends im Bereich Halbleitermaterialien und -technologien
Kersten, G.
Book
1990Elektrohydrodynamische Mikropumpe
Richter, A.; Sandmaier, H.
Journal Article
1990Partikelmessung in Gasen
Dorner, J.
Conference Paper
1990Werkstückbegleitender Informationsspeicher als Basis für ein informationstechnisches Konzept für Halbleiterfertigungen
Sauter, K.-D.
Dissertation
1989Chemical and physical processes during the formation of MoSi2 by ion-beam mixing
Möller, W.; Ryssel, H.; Valyi, G.
Journal Article, Conference Paper
1989Contributions of atomic hydrogen to the low temperature removal of traps at silicon oxide-silicon interfaces.
Burte, E.P.; Matthies, P.
Journal Article
1989Fertigungstechnik im Reinraum. Nur so rein wie nötig - Trend zu hochautomatisierter Fertigung
Schmutz, W.; Schraft, R.D.
Journal Article
1989A flexible target chamber for a Varian 350 DF implanter
Kluge, A.; Ryssel, H.; Schork, R.
Journal Article, Conference Paper
1989Lokale Reinräume. Flexibles, fotolithographisches Prozeßzentrum für die Halbleiterfertigung
Warnecke, H.-J.; Frühauf, W.; Kelemen, M.; Mann, R.
Journal Article
1989Simulation halbleitertechnologischer Prozess-Schritte in der Mikroelektronik
Lorenz, J.; Pelka, J.; Ryssel, H.
Journal Article
1989Two-dimensional simulation of ion implantation profiles using a personal computer
Barthel, A.; Lorenz, J.; Ryssel, H.
Journal Article, Conference Paper
1988ASWR - method for the simulation of dopant redistribution in silicon
Lorenz, J.; Svoboda, M.
Conference Paper
1988CW argon-laser induced zone-melting recrystallization of thin silicon on oxide.
Ryssel, H.; Götzlich, J.; Steinberger, H.; Qiuxia, X
Journal Article
1988Implementation of models for stress-reduced oxidation into 2-D simulator
Seidl, A.; Huber, V.; Rudan, M.; Selberherr, S.; Stippel, H.; Strasser, E.; Lorenz, E.
Conference Paper
1988The influence of implantation parameters and annealing conditions on the formation and properties of MoSi2 layers.
Dehm, C.; Möller, W.; Ryssel, H.; Valyi, G.
Book Article
1988Influence of initial conditions on point defect diffusion. Impact on models
Dürr, R.; Pichler, P.
Conference Paper
1988Safety aspects of ion implantation.
Ryssel, H.
Conference Paper
1988Safety consideration for ion implanters.
Hamers, P.; Ryssel, H.
Book Article
1988Time-resolved thermal annealing of interface traps in aluminium gate-silicon oxide-silicon devices
Burte, E.P.; Matthies, P.
Journal Article
1986Anforderungen an den Reinraum aus der Sicht der Halbleitertechnologie
Ryssel, H.; Pfitzner, L.
Conference Paper
1984Basis device structures
Mader, H.
Book Article
1983Bulk-barrier transistor
Mader, H.; Mueller, R.; Beinvogel, W.
Journal Article
1983Cd-diffused lead salt diode lasers and their application in multicomponent gas analysis systems
Jakubowicz, A.; Eisenbeiss, A.; Bachem, K.H.; Ball, D.; Boettner, H.; Preier, H.M.; Riedel, W.J.
Conference Paper
1983Ion beam lithography
Ryssel, H.; Haberger, K.
Book Article