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Title
Anordnung fuer roentgenanalytische Anwendungen
Date Issued
2002
Author(s)
Dietsch, R.
Holz, T.
Patent No
2001-10107914
Abstract
Die Erfindung betrifft eine Anordnung fuer roentgenanalytische Anwendungen, wie z. B. fuer die Roentgendiffraktometrie, die Reflektometrie und/oder die Fluoreszenzanalyse. Aufgabengemaess soll die Roentgenstrahlung eines Punktbrennfleckes einer Roentgenstrahlquelle mit hoher Genauigkeit monochromatisiert, fokussiert und gegebenenfalls in Parallelstrahlung erhoehter Photendichte umgewandelt werden. Zur Loesung dieser Aufgabe wird parallele Roentgenstrahlung mit punktfoermigem Primaerstrahlquerschnitt auf ein konkav, in Parabelform gekruemmtes reflektierendes Element gerichtet, mit dem die Roentgenstrahlung mittels eines auf dem reflektierenden Element ausgebildeten Gradienten- Multischichtsystems fokussiert und monochromatisiert wird. Zwischen der Roentgenstrahlquelle und dem reflektierenden Element ist mindestens eine Blende angeordnet.
WO 200265481 A UPAB: 20021010 NOVELTY - Parallel X-ray beams emerging from a focal spot in a source (1) of X-ray beams with a similar focal spot primary beam cross section are directed with a beam width (b1) onto a reflective multilayer gradient-element (2) or Goebel mirror curved in a concave and parabolic manner. For masking X-ray beams that can impact directly onto a test piece (7) as polychromatic beams, there is a screen (8) between the source of X-ray beams and the reflective element. USE - In X-ray diffractometry, reflectometry or fluorescence analysis. ADVANTAGE - The X-ray beams for the focal spot in the source of X-ray beams can be monochromatized, focused and, if necessary, converted into parallel beams of high photon density.
Language
de
Patenprio
DE 2001-10107914 A: 20010214