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Title
Indentor und Verfahren zu seiner Herstellung
Date Issued
2001
Author(s)
Jiang, X.
Patent No
2000-10003836
Abstract
Die Erfindung betrifft einen Indentor, bei dem die Indentorspitze eine zumindest elektrisch halbleitende Oberflaechenschicht aufweist, und bei dem die Beschichtung eine mittels Plasmaverfahren abgeschiedene Diamantschicht ist. Der Indentor kann zur Messung von Mikrohaerten und Schichthaftung von Materialien eingesetzt werden, beispielsweise fuer die Haertebestimmung nach der Vickers- oder Knoop-Methode.
WO 200155695 A UPAB: 20011024 NOVELTY - The indenter has an indenting tip provided with an electrically semi-conducting surface layer consisting of a crystalline diamond material applied via a chemical vapour deposition process, e.g. a diamond composite layer with an electrically conductive phase component. DETAILED DESCRIPTION - Also included are INDEPENDENT CLAIMS for the following: (a) an application of an indenter for micro-hardness measurement; (b) an application of an indenter for coating adhesion measurement USE - The indenter is used for measuring micro-hardnesses and ciating adhesion of materials, e.g. for measuring Vickers or Knoop hardnesses. ADVANTAGE - The indenter can be provided with an electrical resistance of between 100 and 1500 Ohm.
Language
de
Patenprio
DE 2000-10003836 A: 20000128