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Indentor und Verfahren zu seiner Herstellung

Indenter for measuring micro-hardness and coating adhesion of materials has indenter tip provided with diammond layer via chemical vapour deposition.
 
: Jiang, X.

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DE 2000-10003836 A: 20000128
DE 2000-10003836 A: 20000128
WO 2001-EP823 A: 20010125
DE 10003836 C2: 20020425
G01N0003
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IST ()

Abstract
Die Erfindung betrifft einen Indentor, bei dem die Indentorspitze eine zumindest elektrisch halbleitende Oberflaechenschicht aufweist, und bei dem die Beschichtung eine mittels Plasmaverfahren abgeschiedene Diamantschicht ist. Der Indentor kann zur Messung von Mikrohaerten und Schichthaftung von Materialien eingesetzt werden, beispielsweise fuer die Haertebestimmung nach der Vickers- oder Knoop-Methode.

 

WO 200155695 A UPAB: 20011024 NOVELTY - The indenter has an indenting tip provided with an electrically semi-conducting surface layer consisting of a crystalline diamond material applied via a chemical vapour deposition process, e.g. a diamond composite layer with an electrically conductive phase component. DETAILED DESCRIPTION - Also included are INDEPENDENT CLAIMS for the following: (a) an application of an indenter for micro-hardness measurement; (b) an application of an indenter for coating adhesion measurement USE - The indenter is used for measuring micro-hardnesses and ciating adhesion of materials, e.g. for measuring Vickers or Knoop hardnesses. ADVANTAGE - The indenter can be provided with an electrical resistance of between 100 and 1500 Ohm.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-69827.html