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Title
Verfahren zur Erzeugung von Ultraviolettstrahlung
Date Issued
2000
Author(s)
Patent No
1998-19858117
Abstract
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung von Ultraviolett-(UV)strahlung, bei dem das die Strahlung emittierende Medium ein Plasma ist, und welches dadurch gekennzeichnet ist, dass das Plasma mittels einer gepulsten Hochstromentladung erzeugt wird und sich getrieben vom Eigenmagnetfeld des Entladungsstromes entlang der Elektroden ausbreitet. Bevorzugstes Anwendungsgebiet ist die Erzeugung und nachfolgende Beaufschlagung von Oberflaechen mit der Unltraviolettstrahlung, um unerwuenschte und zum Beispiel toxische Substanzen von Oberflaechen in unschaedliche Substanzen umzuwandeln oder um schaedliche Keime abzutoeten.
DE 19922566 A UPAB: 20000823 NOVELTY - The method involves the use of a plasma (7) as the radiation emitting medium. The plasma is produced with a pulsed high current discharge and propagates along the electrodes (1,2) driven by the intrinsic magnetic field of the discharge current. The plasma moves at a speed in excess of 103 m/s. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for the use of a coaxial electrode system to implement the method. USE - For ultraviolet radiation generation for removing substances from surfaces. ADVANTAGE - Overcomes certain disadvantages of conventional methods, e.g. rapid erosion of electrode systems.
Language
de
Institute
Patenprio
DE 1998-19858117 A1: 19981216