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Title
Vorrichtung zur plasmatechnischen Abscheidung von polykristallinem Diamant
Date Issued
2005
Author(s)
Schaefer, L.
Liehr, M.
Patent No
1998-19841777
Abstract
Bei einer Vorrichtung zur plasmatechnischen Abscheidung von polykristallinem Diamant auf grossflaechigen Substraten (5) mit einer Prozesskammer (1) mit Schleuse (6a) ist eine Vielzahl von zueinander parallelen und in einer gemeinsamen Ebene oberhalb der Substrate (5) angeordneten, sich quer zur Substratfoerderrichtung erstreckenden linienfoermigen Mikrowellenplasmaquellen (9, 9', ...) und in die Prozesskammer (1) einmuendenden Gaszuleitungs- und Gasabzugsrohren (10, 10', ..., 11, 11', ..., 12, 12', ..., 13, 13', ..., 13a, ...) vorgesehen, wobei jeder der Linienquellen (9, 9', ...) jeweils mehrere ueber die Laenge der Quelle verteilt angeordnete Gaszuleitungs- und Gasabzugsrohre zugeordnet sind und wobei sich die Austrittsoeffnungen der Gaszuleitungsrohre jeweils unmittelbar oberhalb der Linienquelle (9, 9', ...) befinden und die Oeffnungen der Gasabzugsrohre (13, 13', ...) jeweils im Bereich zwischen zwei Linienquellen (9, 9', ...) und in einer Ebene, die sich etwa durch die Seelenachsen (5) der Linienquellen (9, 9', ...) erstreckt.
DE 19841777 C UPAB: 20000203 NOVELTY - The apparatus consists of a process chamber with microwave plasma sources arranged above the substrate, as well as with gas inlet pipes with their outlets located directly above the plasma sources, and gas extraction pipes with their inlets located between the plasma sources at the level of the plane through the center lines of the plasma sources. USE - For coating substrates with large plane areas with polycrystalline diamond ADVANTAGE - Superhard coatings can be produced with uniform thickness and quality.
Language
de
Patenprio
DE 1998-19841777 A: 19980912