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Title
Verfahren und Vorrichtung zur Trocknung von Photoresistschichten
Date Issued
2000
Author(s)
Loechel, B.
Maciossek, A.
Bleidiessel, G.
Wilbers, W.
Patent No
1998-19821237
Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Trocknung von Photoresistschichten, bei dem ein Substrat mit der aufgebrachten Photoresistschicht mit IR-Strahlung einer in der Leistung regelbaren IR-Strahlungsquelle beaufschlagt wird. Waehrend der Trocknung wird die Temperatur in der Umgebung der Photoresistschicht gemessen und die Leistung der IR-Strahlungsquelle anhand der Temperatur so gesteuert, dass ein vorgegebener zeitlicher Temperaturverlauf realisiert wird. In der erfindungsgemaessen Vorrichtung sind hierzu eine Steuereinheit sowie eine Temperaturmesseinrichtung vorgesehen. Mit dem erfindungsgemaessen Verfahren und der zugehoerigen Vorrichtung lassen sich insbesondere dicke Photoresistschichten (.gtoreq. 20 .mu.m) in kurzer Zeit optimal trocknen, wobei eine hohe Aufloesung einer nachfolgend hergestellten Photoresistmaske erreicht werden kann.
WO 9959191 A UPAB: 20000118 NOVELTY - The method involves subjecting a substrate (12) with an applied photoresist coating to infrared radiation from a source (4). The power is controllable (8) and performed in an evacuated chamber. A sensor measures the temperature or a temperature dependent parameter near the coating to regulate (8) the power of the source so that a definable temperature characteristic is achieved during the drying. DETAILED DESCRIPTION - An INDEPENDENT CLAIM is also included for drying apparatus employing the method. USE - For drying photoresist coatings, especially for microsystems and fine processing technology. ADVANTAGE - Enables process-integrated drying of photoresist coatings with thickness greater than 20 microns in acceptable time.
Language
de
Patenprio
DE 1998-19821237 A: 19980512