Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Baron ion implantation in Hg(1-x)Cd(x)Te

Bor Ionen Implantation in Quecksilber Cadmium Tellurid Hg(1-x)Cd(x)Te
 

Journal of applied physics 53 (1982), S.1461
ISSN: 0021-8979
ISSN: 1089-7550
Englisch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer IAF ()
Bor; cadmium; Donator; implantation; n-Leitfaehigkeit; Quecksilber; Tellur; Tempern; tertiaerer Halbleiter

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-5592.html