Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Application of novolack resist systems in x-ray mask fabrication

 
: Pongratz, S.; Betz, H.; Heuberger, A.

Kodak GmbH:
Proceedings of the KODAK Microelectronics Seminar Interface '83
1983 (Kodak Publication G)
KODAK Microelectronics Seminar Interface <1983>
Englisch
Konferenzbeitrag
Fraunhofer IFT; 2000 dem IZM eingegliedert
Lithographie; Photolack; Röntgenstrahlen

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-4375.html