Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Application of e-beam nanolithography for absorber structuring of high resolution x-ray masks

 

:

Microelectronic engineering 21 (1993), S.159
ISSN: 0167-9317
Englisch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer ISIT ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-4336.html