Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Anwendung organischer Resistmaterialien in der Synchrotronlithographie

 
: Heuberger, A.; Trube, J.

Die Angewandte Makromolekulare Chemie 183 (1990), S.123-132
ISSN: 0003-3146
Deutsch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer ISIT ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-4208.html