Fraunhofer-Gesellschaft

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VERFAHREN ZUR PASSIVIERUNG DER OBERFLAECHE VON HALBLEITERBAUELEMENTEN MIT P-N-UEBERGAENGEN

Process for the passivation of the surface of semiconductor components with P-N boundaries
 
: Goetzberger, A.; Eisele, K.

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DE 1972-2205020 A: 19720203
DE 1972-2205020 A: 19720203
DE 2205020 B1: 19730816
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer ISE ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-39474.html