Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Verfahren zur Dotierung von Siliziumdioxid-Schichten auf Silizium mit Fremdstoffen

Process for doping silicon dioxide layers on silicon with foreign bodies
 
: Goetzberger, A.; Sixt, G.

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DE 1971-2115567 A: 19710331
DE 1971-2115567 A: 19710331
DE 2115567 C3: 19730607
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer ISE ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-39077.html