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Verfahren zum Beschichten eines Substrats mit einem Silicon- und Zirkonium-enthaltendem Lack
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Title
Verfahren zum Beschichten eines Substrats mit einem Silicon- und Zirkonium-enthaltendem Lack
Date Issued
1998
Author(s)
Popall, M.
Schulz, J.
Pilz, M.
Olsowski, B.E.
Patent No
1992-7007
Language
de
Institute
Fraunhofer-Institut für Silicatforschung ISC
Link
http://worldwide.espacenet.com/publicationDetails/biblio?DB=worldwide.espacenet.com&locale=en_EP&FT=D&CC=EP&NR=912899A
Patenprio
FR 1992-7007 A: 19920610