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Title
Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Dichte von Mikroporen in Isolatorschichten auf leitenden oder halbleitenden Substraten
Date Issued
1990
Author(s)
Grimm, J.
Loechel, B.
Chlebek, J.
Huber, H.L.
Patent No
1988-3824478
Abstract
Die Zahl von Mikroporen pro Flaeche in einem duennen Film hat entscheidenden Einfluss auf dessen Qualitaet. Insbesondere in der Halbleitertechnik muss deshalb haeufig die Qualitaet duenner Schichten auf halbleitenden Substraten ueberprueft werden. Bei bekannten Verfahren zur Untersuchung der Mikroporen liegt das Ergebnis fruehestens nach einigen Stunden, bei einigen Verfahren erst nach Tagen vor. Ausserdem haengen die Ergebnisse stark von den Parametern der Untersuchungsmethoden ab. Beschrieben wird ein Verfahren, bei welchem im Bereich von Mikroporen in der Schicht oder auf der Substratoberflaeche durch anodische Oxidation Veraenderungen (Faerbung) hervorgerufen werden. Die Zahl der Veraenderungen (= der Mikroporen) wird mit dem blossen Auge oder mit optischen Hilfsmitteln bestimmt. Das Verfahren erlaubt auch die Bestimmung der Groesse der Mikroporen.
Language
de
Patenprio
DE 1988-3824478 A: 19880719