Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Verfahren und Anordnung zur Plasma-Erzeugung

Process and arrangement for generating plasma
 
: Kozlowski, F.; Steiner, P.; Lang, W.; Sauter, M.; Richter, A.

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DE 1993-4304846 A: 19930217
DE 1993-4304846 A: 19930217
EP 1994-907553 A: 19940211
WO 1994-EP400 W: 19940211
DE 4304846 A1: 19940818
EP 685117 A: 19951206
H01L0033
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IZM ()

Abstract
Plasma is generated by applying a voltage to points at a distance from each other on a microporous body. This can take place, for example, by applying a voltage between 50 V and 100 V across a microporous laser of a silicon wafer

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-38409.html