Roentgenmaske aus mit Siliziumnitridschichten kombiniertem Silizium und Verfahren zu ihrer Herstellung
Date Issued
1988
Author(s)
Betz, H.
Csepregi, L.
Huber, H.L.
Windbracke, W.
Patent No
1987-3715865
Abstract
Bei einer Roentgenmaske aus mit Siliziumnitridschichten kombiniertem Silizium ist eine Siliziummembran (3) im Bereich der Justiermarken vollstaendig entfernt, wobei eine duenne Siliziumnitridschicht (1) die Traegerfunktion uebernimmt und gleichzeitig als Haftschicht fuer die bei der galvanischen Absorberstrukturierung erforderliche Startschicht (7) oder bei der subtraktiven Strukturierung unmittelbar fuer die Absorber als Haftschicht dient.