Fraunhofer-Gesellschaft

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Der Plasmafokus. Eine neue Röntgenquelle für die Röntgenmikroskopie und Röntgenlithographie

 
: Eberle, J.; Holz, C.; Neff, W.; Richter, F.; Noll, R.; Lebert, R.

Physikalische Blätter 45 (1989), Nr.8, S.333
ISSN: 0031-9279
Deutsch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer ILT ()
Bremsstrahlung; Energierelaxationszeit; Ionen; Plasmaröntgenquelle; Rekombinationsstrahlung

Abstract
Plasmaröntgenquellen kleiner Abmessungen und hoher Brillanz im Spektralbereich von ca. 0,7 nm bis 4nm werden in der Röntgenlithographie eingesetzt. Mit modifizierten Plasmafokusanlagen lassen sich selektiv strahlende Plasmen aus Hoch-Z-Atomen erzeugen. Die typischen Dimensionen dieser Plasmaröntgenquellen liegen im Submillimeterbereich. Bei geeigneter Wahl der Plasmaparameter dominiert die Linienemission hochionisierter Atome vor anderen Emissionsmechanismen. Erste Resultate zeigen, daß in der Röntgenlithographie mit einer Plasmafokus-Röntgenquelle Strukturen kleiner als 0,2 mym erzeugt werden können.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-28799.html