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1989
Journal Article
Titel
Der Plasmafokus. Eine neue Röntgenquelle für die Röntgenmikroskopie und Röntgenlithographie
Abstract
Plasmaröntgenquellen kleiner Abmessungen und hoher Brillanz im Spektralbereich von ca. 0,7 nm bis 4nm werden in der Röntgenlithographie eingesetzt. Mit modifizierten Plasmafokusanlagen lassen sich selektiv strahlende Plasmen aus Hoch-Z-Atomen erzeugen. Die typischen Dimensionen dieser Plasmaröntgenquellen liegen im Submillimeterbereich. Bei geeigneter Wahl der Plasmaparameter dominiert die Linienemission hochionisierter Atome vor anderen Emissionsmechanismen. Erste Resultate zeigen, daß in der Röntgenlithographie mit einer Plasmafokus-Röntgenquelle Strukturen kleiner als 0,2 mym erzeugt werden können.