Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Phosphorus pentaflouride and sulfurylfluoride applied to etch SiO2 in search for higher selectivities

 
: Eisele, K.M.

Journal of the Electrochemical Society 82 (1982), Nr.6, S.146-149 : Lit.
ISSN: 0013-4651
Englisch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer IAF ()
Plasmaaetzverfahren; Silizium; Siliziumdioxid

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-28364.html