Fraunhofer-Gesellschaft

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Oberflächenmikromechanik für die Herstellung von Silizium-Drucksensoren

 
: Dudaicevs, H.; Kandler, M.; Mokwa, W.

VDI/VDE-Gesellschaft Meß- und Automatisierungstechnik -GMA-, Düsseldorf; Informationstechnische Gesellschaft -ITG-:
Sensoren, Technologie und Anwendung 1992. 6. GMA/ITG-Fachtagung
Düsseldorf: VDI-Verlag, 1992 (VDI-Berichte 939)
ISBN: 3-18-090939-0
S.185-190
Fachtagung Sensoren, Technologie und Anwendung <6, 1992, Bad Nauheim>
Deutsch
Konferenzbeitrag
Fraunhofer IMS ()
capacitive transducer; CMOS-Technik; CMOS-technology; Druckmessung; kapazitives Meßverfahren; pressure measurement; Pulsdauermodulation; pulse time modulation

Abstract
In diesem Beitrag werden kapazitive Hochdrucksensoren vorgestellt, die mit dem Verfahren der Silizium-Oberflächenmikromechanik hergestellt werden. Sensoren mit Membrandurchmessern von 26 fm, 30 fm und 40 fm zeigen Empfindlichkeiten von 3, 5 und 20 fF/bar. Durch Verwendung eines Referenzelementes kann die Temperaturabhängigkeit auf 0,03 %/xC reduziert werden. Die Sensoren zeigen auch nach 200000 Lastwechseln zwischen 0 bar und 300 bar keinerlei Änderungen im Nullpunkt oder der Empfindlichkeit.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-26800.html