Publica
Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.
Monte-Carlo simulation of silicon amorphization during ion implantation
Monte-Carlo-Simulation von Silicium-Amorphisierung bei Ionenimplantation
:
Bohmayr, W.
;
Burenkov, A.
;
Lorenz, J.
;
Ryssel, H.
;
Selberherr, S.
IEEE Electron Devices Society; Japan Society of Applied Physics -JSAP-:
International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices. SISPAD '96
Tokyo: Business Center for Academic Societies Japan, 1996
ISBN: 0-7803-2745-4
ISBN: 0-7803-2746-2
S.17-18 : Ill., Lit.
International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD) <1, 1996, Tokyo>
Englisch
Konferenzbeitrag
Fraunhofer IIS B (
IISB
) (
)
Amorphisierung
;
amorphization
;
Halbleitertechnologie
;
ion implantation
;
Ionenimplantation
;
Monte-Carlo simulation
;
process simulation
;
Prozeßsimulation
;
semiconductor technology
