Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Metallhaltige Germaniumschichten als Hochohmwiderstandsmaterial

 
: Dimigen, H.; Hübsch, H.; Taube, K.; Thyen, R.

Dünne Schichten 4 (1993), Nr.1, S.12-15
ISSN: 0941-7168
Deutsch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer IST ()
electrical resistance; elektrischer Widerstand; Flächenwiderstand; metal containing germanium film; metallhaltige Germaniumschicht; PVD; resistivity; sheet resistance; spezifischer Widerstand; TCR; temperature coefficient; Temperaturkoeffizient

Abstract
Diskrete Widerstandsbauelemente bestehen aus einem Träger, auf den eine Fuktionsschicht mit genau definierten und eng tolerierten elektrischen Eigenschaften aufgebracht wird. Mit der allgemeinen Tendenz zur Miniaturisierung nehmen die Anforderungen an diese Funktionsschicht insbesondere in Bezug auf Hochohmigkeit und Langzeitstabilität stetig zu. Die im PVD-Verfahren hergestellten metallhaltigen Germaniumschichten scheinen nach ersten Untersuchungen eine vielversprechende Altemative zu den heute in der Massenproduktion etablierten Schichtsystemen wie zum Beispiel NiCr oder CrSi darzustellen.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-23635.html