Publica
Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten. Laserstrahlunterstütztes PVD-Verfahren. FKZ 13 N 5611
| VDI-Technologiezentrum Physikalische Technologien, Düsseldorf:
Dünnschichttechnologien '90. Bd.2
Düsseldorf: VDI-Verlag, 1990
ISBN: 3-18-401046-5
S.367-379 : Abb.,Tab.,Lit. |
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| Deutsch |
| Aufsatz in Buch |
| Fraunhofer ILT () |
| Abscheidungszeit; Ionenplattieren; Kathodenzerstäubung; Keramikschicht; Laserstrahlungsquelle; PVD-Verfahren |
Abstract
Auf Oberflächen metallischer Werkstoffe werden mit einem laserstrahlungsunterstützten PVD-Verfahren (LPVD-Verfahren) Hartstoff- und Keramikschichten aufgebracht. Eine LPVD-Versuchsanlage erlaubt die Untersuchung der physikalischen Prozesse. Typische Schichtdecken der Al2O3-Schichten (gepulste TEA-CO2-Laserstrahlungsquelle) bzw. TiN-Schichten (kontinuierliche CO2-Laserstrahlungsquelle) liegen im Bereich von einigen mym bei Abscheidungszeiten von einigen 10 Minuten.