Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Ion-beam mixed ultra-thin cobalt silicide (CoSi2) films by cobalt sputtering and rapid thermal annealing

 
: Kal, S.; Kasko, I.; Ryssel, H.

:

Journal of Electronic Materials 24 (1995), S.1349
ISSN: 0361-5235
ISSN: 1543-186X
Englisch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer IIS B ( IISB) ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-20054.html