Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Growth rate and characterization of silicon oxide films grown in N2O atmosphere in a rapid thermal processor

 
: Lange, P.; Bernt, H.; Hartmannsgruber, E.; Naumann, F.

:

Journal of the Electrochemical Society 141 (1994), S.259-263
ISSN: 0013-4651
Englisch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer ISIT ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-16458.html