Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Growth kinetics and electrical performance of silicon oxide layer grown by RTP in pure N2O ambient

 
: Lange, P.; Hartmannsgruber, E.; Naumann, F.

RTP '94. 2nd International Rapid Thermal Processing Conference. Proceedings : Votrag
1994
ISBN: 0-9638251-2-7
S.219-226
International Rapid Thermal Processing Conference <2, 1994, Montreal>
Englisch
Konferenzbeitrag
Fraunhofer ISIT ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-16449.html