Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

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Gas Flow Simulation in a Rapid Thermal Processing System

Simulation des Gasstroms in einem Schnellheizsytem
 
: Poscher, S.

Öchsner, R.; Ryssel, H. ; Fraunhofer-Institut für Integrierte Schaltungen, Bereich Bauelementetechnologie -IIS-B-, Erlangen:
Fraunhofer-Institut für Integrierte Schaltungen, Bereich Bauelementetechnologie. Leistungen und Ergebnisse. Jahresbericht 1997
Erlangen: IIS-B, 1998
S.36-37
Deutsch, Englisch
Aufsatz in Buch
Fraunhofer IIS B ( IISB) ()
gas-flow; heat-transfer; Phoenics-CVD; RTP; silicon; simulation

Abstract
Using the simulation software Phoenics-CVD we investigated the temperature distribution on a silicon wafer in a lamp heated rapid thermal processing (RTP) system. A purging gas flow induces a one-sided temperature drop on the wafer. For comparison we performed oxidation experiments using the investigated RTP system. The measured oxid layer thickness distribution showed good agreement with the simulation results.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-15722.html