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Erzeugung von Mikrorelief-Oberflächen mit Grauton-Lithographie

 

Verband Deutscher Maschinen- und Anlagenbau e.V. -VDMA-, Fachgruppe Produtronic, München; Hahn-Schickard-Gesellschaft für Angewandte Forschung; Fördergemeinschaft Dünne Schichten -FDS- e.V.:
Workshop Anforderungen an Dünnschichttechnologien für Mikrosysteme, Sensoren und Flachbildschirme 1997
Frankfurt/Main, 1997
9 S. : Ill., Lit.
Workshop Anforderungen an Dünnschichttechnologien für Mikrosysteme, Sensoren und Flachbildschirme <1997, Frankfurt/Main>
Deutsch
Konferenzbeitrag
Fraunhofer ISIT ()

Abstract
Die Grauton-Lithographie ist eine Technologie zur Herstellung von freiwählbaren kontinuierlichen Reliefoberflächen mit Dimensionen im Mikrometerbereich. Das Verfahren kommt mit einem einzigen Photolithographieschritt aus und benutzt kommerziell erhältliche, binär grauton-codierte Photomasken sowie konventionelle Lithographiegeräte. Damit ist dieser Prozeß in bestehenden Halbleiter- und Mikrosystem-Fertigungslinien einsetzbar, so daß eine hohe Reproduzierbarkeit und eine kostengünstige Produktion in hohen Stückzahlen erreicht werden kann. Die Übertragung der primären Photoresist-Reliefstrukturen in die Funktionsmaterialen, wie Silizium, Glas oder Metalle erfolgt mittels Trockenätzen oder Abformtechniken. Diskutiert werden Anwendungen des Verfahrens im Bereich der Mikrooptik zur Herstellung von Mikrolinsen, -prismen oder -gittern sowie mikromechanische Anwendungen.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-13123.html