Fraunhofer-Gesellschaft

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Elektronenstrahl-Mikroanalyse zur Charakterisierung dünner Schichten

 
: Willich, P.; Bethke, R.; Schiffmann, K.I.

Dünne Schichten 4 (1993), Nr.1, S.44-47
ISSN: 0941-7168
Deutsch
Zeitschriftenaufsatz
Fraunhofer IST ()
determination; dünne Schicht; electron probe microanalysis; Elektronenstrahlmikroanalyse; film thickness; non-destructive in-depth analysis; quantitative Analyse; quantitative analysis; Schichtdickenbestimmung; thin films; zerstörungsfreie Tiefenanalyse

Abstract
Herstellungsparameter und physikalisch-technische Eigenschaften dünner Schichten stehen in engem Zusammenhang mit deren chemischer Zusammensetzung. Die Entwicklung und reproduzierbare Fertigung von Mehrelementschichten erfordert die Verfügbarkeit geeigneter Verfahren zur quantitativen Elementaranalyse mit hoher Ortsauflösung. Eine zerstörungsfreie und schnelle Methode stellt die Elektronenenstrahl-Mikroanalyse dar, für die in den letzten Jahren völlig neuartige Anwendungsmöglichkeiten entwickelt worden sind. Anhand praktischer Erfahrungen wird gezeigt, was die Elektronenstrahl-Mikroanalyse hinsichtlich der Charakterisierung dünner Schichten zu leisten vermag.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-11817.html