Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

E-beam written optically transparent x-ray masks - four levels for an industrial VLSI chip with megabit design rules

 

:

Microelectronic engineering 17 (1992), Nr.1-4, S.161-165
ISSN: 0167-9317
International Conference on Microlithography: Microcircuit Engineering (ME) <17, 1991, Rome>
Englisch
Konferenzbeitrag
Fraunhofer ISIT ()

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-10458.html