Fraunhofer-Gesellschaft

Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Distortion measurements on pure-silicon and siliconplastic X-ray masks

Verzugsmessungen an Reinsiliziummasken und Silizium-Plastikmasken fuer die Roentgenlithographie
 
: Triantafyllou, M.; Betz, H.; Heuberger, A.; Tischer, P.

Oosenbrug, A. ; TH Zürich -ETH-:
Microcircuit Engineering 81. Proceedings of the International Conference on Microlithography
Lausanne: Swiss Federal Institute of Technology, 1981
S.285-296 : Ill.
International Conference on Microlithography <1981, Lausanne>
Englisch
Konferenzbeitrag
Fraunhofer IFT; 2000 dem IZM eingegliedert
Lithographie; Lithographiemaske; Maskenverzerrung; Röntgenstrahlen; Silizium

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/PX-10050.html