Publica

Hier finden Sie wissenschaftliche Publikationen aus den Fraunhofer-Instituten.

Distortion measurements on pure-silicon and siliconplastic X-ray masks

Verzugsmessungen an Reinsiliziummasken und Silizium-Plastikmasken fuer die Roentgenlithographie

: Triantafyllou, M.; Betz, H.; Heuberger, A.; Tischer, P.

	Oosenbrug, A. ; TH Zürich -ETH-: Microcircuit Engineering 81. Proceedings of the International Conference on Microlithography Lausanne: Swiss Federal Institute of Technology, 1981 S.285-296 : Ill.
	International Conference on Microlithography <1981, Lausanne>

	Englisch
	Konferenzbeitrag
	Fraunhofer IFT; 2000 dem IZM eingegliedert
	Lithographie; Lithographiemaske; Maskenverzerrung; Röntgenstrahlen; Silizium