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Title
Explosivstoffladung
Date Issued
2007
Author(s)
Heine, A.
Wickert, M.
Thoma, K.
Patent No
102007051345
Abstract
(A1) Beschrieben wird auf eine Explosivstoffladung, die eine aus explosivem Material bestehende Raumform aufweist und im Wege der Explosion eine raeumliche anisotrope Druckwirkung in mindestens eine Hauptwirkungsrichtung entfaltet, in die die Druckwirkung groesser ist als in andere Wirkrichtungen. Die Erfindung zeichnet sich dadurch aus, dass die aus explosivem Material bestehende Raumform einen der Hauptwirkungsrichtung zugewandten und sich in die Hauptwirkungsrichtung erstreckenden Oberflaechenbereich aufweist, dass auf dem Oberflaechenbereich Partikel aufgebracht sind und/oder eine bei der Explosion in Partikel zerfallende Materialschicht aufgebracht ist, dass die Partikel aus einem nicht explosiven Material bestehen und dass eine den Partikeln zuordenbare Gesamtmasse kleiner ist als eine dem explosiven Material zuordenbare Masse.
EP 2053341 A2 UPAB: 20090514 NOVELTY - The load has a saucer-type space profile comprising an explosive material, and developing spatial anisotropic pressure impact in a main action direction at a path of an explosion, where a pressure impact in the direction is larger than in another direction. A nano or micro particle is applied on an upper surface area and/or a material layer disintegrated in the particle, and a total volume related to the particle is lesser than mass related to the material. The profile is turned towards the former direction and includes the upper surface area extending in the former direction. USE - Explosive load. ADVANTAGE - The space profile comprises the explosive material and develops the spatial anisotropic pressure impact in the main action direction at the path of the explosion, where the pressure impact in the direction is larger than in another direction, thus improving the range of the pressure impact and spatial focusing barness of the pressure impact. The load enables the propagation of the pressure effect in a sharply defined direction, and avoids beam or projectile broadening body or chip.
Language
de
Patenprio
DE 102007051345 A: 20071026