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Anordnung zur Ausbildung von Beschichtungen auf Substraten im Vakuum

Process to apply a coating to a substrate in a vacuum using a laser beam guided by permanent magnet or electro-magnet
 
: Meyer, C.

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DE 102007019982 A: 20070423
DE 102007019982 A: 20070423
C23C0014
Deutsch
Patent, Elektronische Publikation
Fraunhofer IWS ()

Abstract
(A1) Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Ausbildung von Beschichtungen auf Substraten im Vakuum, bei der ein Plasma mittels elektrischer Bogenentladung an mindestens einem als Kathode geschalteten Target gebildet und die Bogenentladung zwischen einer Anode und dem Target mittels eines auslenkbaren fokussierten Laserstrahls, der auf die Oberflaeche des Targets durch ein Fenster gerichtet ist, gezuendet wird. Aufgabe der Erfindung ist es, eine technische Loesung vorzugeben, mit der eine unerwuenschte Beschichtung im Fensterbereich einer Vakuumkammer deutlich reduziert werden kann. Erfindungsgemaess ist hierfuer zwischen Fenster und mindestens einem Target ein Permanent- oder Elektromagnet seitlich neben, ober- oder unterhalb der optischen Achse des Laserstrahls angeordnet und der Laserstrahl durch ein vom Permanent- oder Elektromagnet ausgebildetes Magnetfeld gefuehrt.

 

DE 102007019982 A1 UPAB: 20090103 NOVELTY - In a process to apply a coating to a substrate in a vacuum, a plasma arc is directed at a cathode target. The arc discharges between the cathode and target via a focused laser beam through an aperture, and ignites on the target surface. A permanent magnet or electromagnet is positioned to the side, above or below the laser beam between the window and the target. The magnet guides the laser beam to the target. USE - Process to apply a coating to a substrate in a vacuum. ADVANTAGE - The magnet minimises plasma vagabond discharge around the window.

: http://publica.fraunhofer.de/dokumente/N-91414.html